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1. (WO2017184736) RADIO FREQUENCY EXTRACTION SYSTEM FOR CHARGE NEUTRALIZED ION BEAM
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Pub. No.:    WO/2017/184736    International Application No.:    PCT/US2017/028372
Publication Date: 26.10.2017 International Filing Date: 19.04.2017
IPC:
H01J 37/32 (2006.01), H01J 37/317 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: BILOIU, Costel; (US).
LUBICKI, Piotr; (US).
ROCKWELL, Tyler; (US).
CAMPBELL, Christopher; (US).
SINGH, Vikram; (US).
DANIELS, Kevin M.; (US).
HERTEL, Richard J.; (US).
KURUNCZI, Peter F.; (US).
LIKHANSKII, Alexandre; (US)
Agent: ROY, Ronnen; (US)
Priority Data:
15/133,261 20.04.2016 US
Title (EN) RADIO FREQUENCY EXTRACTION SYSTEM FOR CHARGE NEUTRALIZED ION BEAM
(FR) SYSTÈME D'EXTRACTION PAR RADIOFRÉQUENCE POUR UN FAISCEAU D'IONS NEUTRALISÉ PAR UNE CHARGE
Abstract: front page image
(EN)A processing apparatus may include a plasma chamber to house a plasma and having a main body portion comprising an electrical insulator; an extraction plate disposed along an extraction side of the plasma chamber, the extraction plate being electrically conductive and having an extraction aperture; a substrate stage disposed outside of the plasma chamber and adjacent the extraction aperture, the substrate stage being at ground potential; and an RF generator electrically coupled to the extraction plate, the RF generator establishing a positive dc self-bias voltage at the extraction plate with respect to ground potential when the plasma is present in the plasma chamber.
(FR)La présente invention concerne un appareil de traitement qui peut comprendre une chambre à plasma pour recevoir un plasma et ayant une partie de corps principal comprenant un isolant électrique ; une plaque d'extraction disposée le long d'un côté d'extraction de la chambre à plasma, la plaque d'extraction étant électroconductrice et comportant une ouverture d'extraction ; un étage de substrat disposé à l'extérieur de la chambre à plasma et adjacent à l'ouverture d'extraction, l'étage de substrat étant au potentiel de masse ; et un générateur RF couplé électriquement à la plaque d'extraction, le générateur RF établissant une tension d'auto-polarisation continue positive au niveau de la plaque d'extraction par rapport au potentiel de masse lorsque le plasma est présent dans la chambre à plasma.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)