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1. (WO2017184356) COMBINED ANNEAL AND SELECTIVE DEPOSITION SYSTEMS
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Pub. No.:    WO/2017/184356    International Application No.:    PCT/US2017/026515
Publication Date: 26.10.2017 International Filing Date: 07.04.2017
IPC:
C23C 16/44 (2006.01), C23C 16/458 (2006.01), H01L 21/02 (2006.01)
Applicants: ASM IP HOLDING B.V. [NL/NL]; Versterkerstraat 8 1322 Ap Almere (NL).
ASM AMERICA, INC. [US/US]; 3440 East University Drive Phoenix, AZ 85034-7200 (US) (MN only)
Inventors: MAES, Jan, Willem; (NL).
KNAEPEN, Werner; (NL)
Agent: DELANEY, Karoline, A.; (US)
Priority Data:
15/132,084 18.04.2016 US
Title (EN) COMBINED ANNEAL AND SELECTIVE DEPOSITION SYSTEMS
(FR) SYSTÈMES COMBINÉS DE RECUIT ET DE DÉPÔT SÉLECTIF
Abstract: front page image
(EN)A system and a method for forming a film with an annealing step and a deposition step is disclosed. The system performs an annealing step for inducing self-assembly or alignment within a polymer. The system also performs a selective deposition step in order to enable selective deposition on a polymer.
(FR)L'invention concerne un système et un procédé de formation d'un film, présentant une étape de recuit et une étape de dépôt. Le système effectue une étape de recuit pour induire l'autoassemblage ou l'alignement au sein d'un polymère. Le système effectue également une étape de dépôt sélectif afin de permettre un dépôt sélectif sur un polymère.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)