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1. (WO2017183086) MASS SPECTROMETER
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Pub. No.:    WO/2017/183086    International Application No.:    PCT/JP2016/062287
Publication Date: 26.10.2017 International Filing Date: 18.04.2016
IPC:
G01N 27/62 (2006.01), H01J 49/10 (2006.01)
Applicants: SHIMADZU CORPORATION [JP/JP]; 1, Nishinokyo-Kuwabara-cho, Nakagyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6048511 (JP)
Inventors: HARADA, Takahiro; (JP)
Agent: KYOTO INTERNATIONAL PATENT LAW OFFICE; Hougen-Sizyokarasuma Building, 37, Motoakuozi-tyo, Higasinotouin Sizyo-sagaru, Simogyo-ku, Kyoto-si, Kyoto 6008091 (JP)
Priority Data:
Title (EN) MASS SPECTROMETER
(FR) SPECTROMÈTRE DE MASSE
(JA) 質量分析装置
Abstract: front page image
(EN)An image formation optical system (15) having a small focal distance and an aperture member (14) having an opening having a predetermined shape are disposed in a predetermined position between a laser irradiation part (13) and a sample (100), and a substantially square-shaped laser light irradiation region is formed by forming a reduced image of the opening shape on the sample (100). A configuration is adopted whereby the aperture member (14) and the image formation optical system (15) can each be moved in the optical axis direction, and the size of the substantially square-shaped laser light irradiation region on the sample (100) is variable. The size of the laser light irradiation region is matched to the size of a unit region of interest in an analysis object region on the sample (100), and a step width of scanning for moving the laser light irradiation position is also matched to the size of the unit region of interest, whereby the sample (100) can be evenly scanned and mass spectrometry data can be collected without overlapping of laser irradiation sites. The sample can thereby be effectively utilized, mass detection omission is eliminated, and the uniformity of signal strength of a uniformly distributed mass is also increased.
(FR)Selon l'invention, un système optique de formation d'image (15) ayant une faible distance focale et un élément d'ouverture (14) ayant une ouverture ayant une forme prédéterminée sont disposés dans une position prédéterminée entre une partie d'irradiation par laser (13) et un échantillon (100), et une région d'irradiation par lumière laser de forme sensiblement carrée est formée par formation d'une image réduite de la forme d'ouverture sur l'échantillon (100). Une configuration est adoptée par laquelle l'élément d'ouverture (14) et le système optique de formation d'image (15) peuvent chacun être déplacés dans la direction de l'axe optique, et la taille de la région d'irradiation par lumière laser de forme sensiblement carrée sur l'échantillon (100) est variable. La taille de la région d'irradiation par lumière laser est adaptée à la taille d'une région unitaire d'intérêt dans une région d'objet d'analyse sur l'échantillon (100), et une largeur de pas de balayage pour déplacer la position d'irradiation par lumière laser est également mise en correspondance avec la taille de la région unitaire d'intérêt, ce par quoi l'échantillon (100) peut être balayé uniformément et des données de spectrométrie de masse peuvent être collectées sans chevauchement de sites d'irradiation par laser. L'échantillon peut ainsi être efficacement utilisé, une omission de détection de masse est éliminée, et l'uniformité de l'intensité de signal d'une masse répartie uniformément est également augmentée.
(JA)レーザ照射部(13)と試料(100)との間の所定位置に、所定形状の開口を有するアパーチャ部材(14)と焦点距離の短い結像光学系(15)とを配置し、試料(100)上に開口形状を縮小結像することで、略正方形状のレーザ光照射領域を形成する。また、アパーチャ部材(14)及び結像光学系(15)をそれぞれ光軸方向に移動可能とし、試料(100)上の略正方形状のレーザ光照射領域のサイズを可変とする。試料(100)上の分析対象領域内の単位着目領域の大きさにレーザ光照射領域のサイズを合わせ、レーザ光照射位置を移動させる走査のステップ幅も単位着目領域の大きさに合わせることで、試料(100)上を満遍なく且つレーザ照射部位が重なることなく走査して質量分析データを収集することができる。それにより、試料が有効に利用できるとともに物質の検出漏れもなくなり、均一に分布している物質の信号強度の均一性も高まる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
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European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)