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1. (WO2017182612) SYSTEM FOR DEFLECTING AND POINTING A MICROWAVE BEAM
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Pub. No.:    WO/2017/182612    International Application No.:    PCT/EP2017/059481
Publication Date: 26.10.2017 International Filing Date: 21.04.2017
Chapter 2 Demand Filed:    24.01.2018    
IPC:
H01Q 3/12 (2006.01), H01Q 3/14 (2006.01), H01Q 15/02 (2006.01), H01Q 15/23 (2006.01), H01Q 19/06 (2006.01)
Applicants: THALES [FR/FR]; TOUR CARPE DIEM Place des Corolles Esplanade Nord 92400 COURBEVOIE (FR)
Inventors: CZARNY, Romain; (FR).
LESUEUR, Guillaume; (FR).
LEE-BOUHOURS, Mane-Si Laure; (FR).
MERLET, Thomas; (FR).
ALLAEYS, Jean-François; (FR)
Agent: HENRIOT, Marie-Pierre; (FR).
ESSELIN, Sophie; (FR)
Priority Data:
1600670 22.04.2016 FR
Title (EN) SYSTEM FOR DEFLECTING AND POINTING A MICROWAVE BEAM
(FR) SYSTEME DE DEFLEXION ET DE POINTAGE D'UN FAISCEAU HYPERFREQUENCE
Abstract: front page image
(EN)The invention relates to a controllable deflection system which comprises: - a device for forming an incident microwave beam, having a wavelength of between 1 mm and 1 m, configured to collimate said beam in transmitting mode or to focus said beam in receiving mode, - a first device for deflecting the microwave beam comprising a first diffractive dielectric component (C1) with sub-wavelength microstructures, the first diffractive dielectric component being associated with a first rotation mechanism (R1) about a first controllable axis (Ω1). The system comprises, upstream of the first deflection device in transmitting mode, or downstream of the first deflection device in receiving mode: - a second deflection device configured to deflect an incident microwave beam towards the first deflection device, in transmitting mode, or from the first deflection device in receiving mode, said second deflection device being associated with a second rotation mechanism (R2) about a second controllable axis (Ω2), and the angle (Ω1, Ω2) formed by the first and second axes of rotation is greater than 0° and less than or equal to 90°, and the first rotation mechanism (R1) is rigidly connected to the second rotation mechanism (R2) in such a way that a rotation of the second rotation mechanism about the controllable axis thereof (Ω2) causes a rotation of the first rotation mechanism about said same axis.
(FR)L'invention concerne un système de déflexion pilotable qui comporte : - un dispositif de formation d'un faisceau hyperfréquence, incident ayant une longueur d'onde comprise entre 1 mm et 1 m, configuré pour collimater ledit faisceau en mode émission ou focaliser ledit faisceau en mode réception, - un premier dispositif de déflexion du faisceau hyperfréquence comprenant un premier composant diélectrique diffractif (C1) à microstructures sub-longueur d'onde, le premier composant diélectrique diffractif étant associé à un premier mécanisme de rotation (R1) autour d'un premier axe (Ω1) pilotable, Il comprend en amont du premier dispositif de déflexion en mode émission ou en aval du premier dispositif de déflexion en mode réception : - un deuxième dispositif de déflexion configuré pour défléchir un faisceau hyperfréquence incident vers le premier dispositif de déflexion, en mode émission, ou issu du premier dispositif de déflexion en mode réception, ce deuxième dispositif de déflexion étant associé à un deuxième mécanisme de rotation (R2) autour d'un deuxième axe (Ω2) pilotable, et l'angle (Ω1, Ω2) formé par le premier et le deuxième axes de rotation est supérieur à 0° et inférieur ou égal à 90°, et le premier mécanisme de rotation (R1) est solidaire du deuxième mécanisme de rotation (R2) de manière à ce qu'une rotation du deuxième mécanisme de rotation autour de son axe pilotable (Ω2) entraîne une rotation du premier mécanisme de rotation autour de ce même axe.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)