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1. (WO2017182235) DETERMINATION OF STACK DIFFERENCE AND CORRECTION USING STACK DIFFERENCE
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Pub. No.: WO/2017/182235 International Application No.: PCT/EP2017/057261
Publication Date: 26.10.2017 International Filing Date: 28.03.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: ASML NETHERLANDS B.V.[NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors: DEN BOEF, Arie, Jeffrey; NL
BHATTACHARYYA, Kaustuve; NL
Agent: BROEKEN, Petrus; NL
Priority Data:
16166614.422.04.2016EP
Title (EN) DETERMINATION OF STACK DIFFERENCE AND CORRECTION USING STACK DIFFERENCE
(FR) DÉTERMINATION DE DIFFÉRENCE DE PILE ET CORRECTION AU MOYEN D’UNE DIFFÉRENCE DE PILE
Abstract: front page image
(EN) A method including: obtaining a measurement of a metrology target on a substrate processed using a patterning process, the measurement having been obtained using measurement radiation; and deriving a parameter of interest of the patterning process from the measurement, wherein the parameter interest is corrected by a stack difference parameter, the stack difference parameter representing an undesigned difference in physical configuration between adjacent periodic structures of the target or between the metrology target and another adjacent target on the substrate.
(FR) La présente invention concerne un procédé comprenant : l’obtention d’une mesure d'une cible de métrologie sur un substrat traité au moyen d'un processus de modelage, la mesure ayant été obtenue au moyen d'un rayonnement de mesure ; et la dérivation d'un paramètre d'intérêt du processus de modelage à partir de la mesure, l'intérêt du paramètre étant corrigé par un paramètre de différence de pile, le paramètre de différence de pile représentant une différence non conçue dans la configuration physique entre des structures périodiques adjacentes de la cible ou entre la cible de métrologie et une autre cible adjacente sur le substrat.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)