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1. (WO2017181848) ISOLATION FILM WITH LOW SHRINKAGE AT WIDE TEMPERATURE RANGE AND PREPARATION METHOD THEREFOR
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Pub. No.:    WO/2017/181848    International Application No.:    PCT/CN2017/079539
Publication Date: 26.10.2017 International Filing Date: 06.04.2017
Chapter 2 Demand Filed:    25.08.2017    
IPC:
C08L 23/06 (2006.01), C08L 27/16 (2006.01), C08L 61/16 (2006.01), C08J 9/28 (2006.01), B29D 7/01 (2006.01), H01M 2/16 (2006.01), H01M 2/14 (2006.01)
Applicants: SHANGHAI ENERGY NEW MATERIALS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; NO. 155, NANLU ROAD, PUDONG NEW DISTRICT Shanghai 201399 (CN)
Inventors: CHENG, Yue; (CN).
XIONG, Lei; (CN).
DENG, Honggui; (CN).
HE, Fangbo; (CN).
WANG, Weiqiang; (CN)
Agent: CCPIT PATENT AND TRADEMARK LAW OFFICE; 8th Floor, Vantone New World Plaza, 2 Fuchengmenwai Street, Xicheng District Beijing 100037 (CN)
Priority Data:
201610256004.5 22.04.2016 CN
Title (EN) ISOLATION FILM WITH LOW SHRINKAGE AT WIDE TEMPERATURE RANGE AND PREPARATION METHOD THEREFOR
(FR) FILM D'ISOLATION À FAIBLE RETRAIT DANS UNE LARGE PLAGE DE TEMPÉRATURE ET PROCÉDÉ POUR SA PRÉPARATION
(ZH) 一种宽温域低收缩隔离膜及其制备方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed are an isolation film with low shrinkage at a wide temperature range and a preparation method therefor, which fall within the technical field of electrochemistry. The isolation film of the present invention comprises an irradiation cross-linked fluorine-containing polymer A with a melting point of 150°C or more, and/or a polymer B containing a benzene ring in the backbone of a molecule; ultra-high molecular weight polyethylene with a molecular weight of 1.0×106 to 10.0×106; and high density polyethylene with a density within the range of 0.940-0.976 g/cm3. The temperature difference between the pore-closing temperature and the film-breaking temperature of the isolation film is 80°C-90°C, and is preferably 85°C-90°C, and the thermal shrinkage thereof is not higher than 2.0%. The isolation film of the present invention has a higher difference between the film-breaking temperature and the pore-closing temperature, and a lower thermal shrinkage. When the isolation film of the present invention is used in an electrochemical device, the reliability and safety of the electrochemical device are effectively improved.
(FR)L'invention concerne un film d'isolation à faible retrait dans une large plage de température et un procédé pour sa préparation, qui se situent dans le domaine technique de l'électrochimie. Le film d'isolation de la présente invention comprend un polymère A contenant du fluor, réticulé par irradiation, présentant un point de fusion de 150°C ou plus et/ou un polymère B contenant un cycle benzène dans le squelette d'une molécule ; un polyéthylène de poids moléculaire ultra-élevé présentant un poids moléculaire de 1,0×106 à 10,0×106 ; et un polyéthylène haute densité présentant une densité dans la plage de 0,940-0,976 g/cm3. La différence de température entre la température de fermeture des pores et la température de rupture du film d'isolation est de 80°C-90°C et est de préférence de 85°C-90°C et son retrait thermique n'est pas supérieur à 2,0 %. Le film d'isolation de la présente invention présente une différence plus élevée entre la température de rupture de film et la température de fermeture de pore et un retrait thermique inférieur. Lorsque le film d'isolation de la présente invention est utilisé dans un dispositif électrochimique, la fiabilité et la sécurité du dispositif électrochimique sont efficacement améliorées.
(ZH)本发明公开了一种宽温域低收缩隔离膜及其制备方法,属于电化学技术领域。其中,本发明的隔离膜包括:经辐照交联的熔点在150℃以上的含氟聚合物A和/或分子主链含有苯环的聚合物B;分子量为1.0×106至10.0×106的超高分子量聚乙烯;和密度为0.940-0.976g/cm3范围内的高密度聚乙烯;所述隔离膜的闭孔温度和破膜温度的温差为80-90℃,优选为85-90℃;热收缩率不高于2.0%。本发明的隔离膜具有较高的破膜温度和闭孔温度差值,和较低的热收缩率;当在电化学装置中使用本发明的隔离膜时,能够有效提高电化学装置的可靠性和安全性。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)