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1. (WO2017181731) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
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Pub. No.:    WO/2017/181731    International Application No.:    PCT/CN2017/000027
Publication Date: 26.10.2017 International Filing Date: 03.01.2017
IPC:
H01L 21/67 (2006.01)
Applicants: BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; No.10 Jiuxianqiao Rd., Chaoyang District, Beijing 100015 (CN).
HEFEI XINSHENG OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; Xinzhan Industrial Park, Hefei, Anhui 230012 (CN)
Inventors: PENG, Weigang; (CN).
ZHOU, Wei; (CN).
HSIEH, Chengnan; (CN).
YANG, Yu; (CN).
LIM, Giseub; (CN).
YUAN, Chen; (CN)
Agent: TEE&HOWE INTELLECTUAL PROPERTY ATTORNEYS; Yuan CHEN 10th Floor, Tower D, Minsheng Financial Center, 28 Jianguomennei Avenue, Dongcheng District Beijing 100005 (CN)
Priority Data:
201610252093.6 21.04.2016 CN
Title (EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(ZH) 基板处理装置
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a substrate processing apparatus. The apparatus comprises a processing chamber, a substrate sensing component, a rotating shaft (300), and a driving component (400). A part of the rotating shaft (300) is disposed inside the processing chamber, and the remaining part of the rotating shaft (300) is disposed outside the processing chamber. The substrate sensing component is disposed on the part of the rotating shaft (300) disposed outside the processing chamber. The driving component (400) is fixed on the part of the rotating shaft (300) located inside the processing chamber. The driving component (400) can drive, upon contacting with a substrate to be processed, the rotating shaft (300) to rotate in a first direction about the axis of the rotating shaft (300). Upon sensing the rotation of the rotating shaft (300) in the first direction, the substrate sensing component sends a first sensing signal indicating that the substrate has entered the processing chamber. When the substrate is not in contact with the driving component (400), the driving component (400) can drive the rotating shaft (300) to rotate about the axis in a second direction opposite to the first direction. Upon sensing the rotation of the rotating shaft (300) in the second direction, the substrate sensing component ceases sending the first sensing signal. Since the substrate sensing component is disposed outside the processing chamber, processing liquids will not affect the substrate sensing component.
(FR)La présente invention concerne un appareil de traitement de substrat. L'appareil comprend une chambre de traitement, un composant de détection de substrat, un arbre rotatif (300) et un composant d'entraînement (400). Une partie de l'arbre rotatif (300) est située à l'intérieur de la chambre de traitement, et la partie restante de l'arbre rotatif (300) est située à l'extérieur de la chambre de traitement. Le composant de détection de substrat est disposé sur la partie de l'arbre rotatif (300) située à l'extérieur de la chambre de traitement. Le composant d'entraînement (400) est fixé sur la partie de l'arbre rotatif (300) située à l'intérieur de la chambre de traitement. Le composant d'entraînement (400) peut, lors de son entrée en contact avec un substrat à traiter, entraîner l'arbre rotatif (300) en rotation dans un premier sens autour de l'axe de l'arbre rotatif (300). Lors de la détection de la rotation de l'arbre rotatif (300) dans le premier sens, le composant de détection de substrat envoie un premier signal de détection indiquant que le substrat a pénétré dans la chambre de traitement. Lorsque le substrat n'est plus en contact avec le composant d'entraînement (400), le composant d'entraînement (400) peut entraîner l'arbre rotatif (300) en rotation autour de l'axe dans un second sens contraire au premier sens. Lors de la détection de la rotation de l'arbre rotatif (300) dans le second sens, le composant de détection de substrat cesse d'envoyer le premier signal de détection. Étant donné que le composant de détection de substrat est disposé à l'extérieur de la chambre de traitement, des liquides de traitement n'ont pas d'incidence sur le composant de détection de substrat.
(ZH)一种基板处理装置,包括处理腔、基板感知组件、转动轴(300)和驱动组件(400),转动轴(300)的一部分设置在处理腔内,其余部分设置在处理腔外,基板感知组件设置在转动轴(300)的设置在处理腔外的部分上;驱动组件(400)固定在转动轴(300)位于处理腔内的部分上;驱动组件(400)能够在接触到待处理的基板时带动转动轴(300)绕自身轴线沿第一方向转动,基板感知组件在感知到转动轴(300)沿第一方向的转动时发出表示基板进入处理腔内的第一感知信号,驱动组件(400)能够在基板离开驱动组件(400)时带动转动轴(300)绕自身轴线沿与第一方向相反的第二方向转动,基板感知组件在感知到转动轴(300)沿第二方向的转动时停止发出第一感知信号。由于基板感知组件设置在处理腔的外部,因此,处理液不会对基板感知组件造成影响。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)