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1. (WO2017180496) PROCESS FOR ELECTRON BEAM CURABLE INKJET FORMULATIONS
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Pub. No.:    WO/2017/180496    International Application No.:    PCT/US2017/026757
Publication Date: 19.10.2017 International Filing Date: 10.04.2017
IPC:
B05D 3/00 (2006.01), B05D 3/06 (2006.01), B05D 3/14 (2006.01)
Applicants: SUN CHEMICAL CORPORATION [US/US]; 35 Waterview Boulevard Parsippany, NJ 07054 (US)
Inventors: ILLSLEY, Derek, Ronald; (GB).
HALL, Stephen, Anthony; (GB)
Agent: ACHKAR, Charles, C.; (US).
FABER, Robert, C.; (US).
WEINER, Samuel, H.; (US).
FINDER, James, A.; (US).
MOSKOWITZ, Max; (US)
Priority Data:
62/320,640 11.04.2016 US
62/320,657 11.04.2016 US
62/449,168 23.01.2017 US
Title (EN) PROCESS FOR ELECTRON BEAM CURABLE INKJET FORMULATIONS
(FR) PROCÉDÉ DESTINÉ À DES FORMULATIONS DE JET D'ENCRE DURCISSABLES PAR FAISCEAU D'ÉLECTRONS
Abstract: front page image
(EN)The present invention provides a method for printing energy-curable ink and coating compositions that have good adhesion to substrates, good print quality, solvent and scratch resistance, and low potential for migration of uncured monomers. The method comprises the steps of printing the ink or coating onto a substrate; partially curing the printed ink or coating by irradiating with UV energy; optionally printing and partially UV curing additional ink layers printed on the first layer; and completing curing via exposure to electron beam radiation, wherein the EB cure dose is greater than or equal to 20 kGy, and the accelerating voltage is greater than or equal to 70 keV.
(FR)La présente invention concerne un procédé permettant d'imprimer des compositions d'encre et d'enduit durcissables sous l'action d'une énergie qui ont une bonne adhérence à des substrats, une bonne qualité d'impression, une bonne résistance aux solvants et aux éraflures, et un faible potentiel de migration des monomères non durcis. Le procédé comprend les étapes consistant à imprimer l'encre ou l'enduit sur un substrat; à durcir partiellement l'encre ou l'enduit imprimé par irradiation au moyen d'énergie UV; éventuellement à imprimer et à durcir aux UV partiellement des couches d'encre supplémentaires imprimées sur la première couche; et à achever le durcissement par exposition à un rayonnement de faisceau d'électrons, la dose de durcissement EB étant supérieure ou égale à 20 kGy, et la tension d'accélération étant supérieure ou égale à 70 keV.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)