WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017179137) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2017/179137 International Application No.: PCT/JP2016/061852
Publication Date: 19.10.2017 International Filing Date: 13.04.2016
Chapter 2 Demand Filed: 13.03.2017
IPC:
H01J 37/22 (2006.01) ,H01J 37/28 (2006.01)
Applicants: HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION[JP/JP]; 24-14, Nishi Shimbashi 1-chome, Minato-ku, Tokyo 1058717, JP
Inventors: ASAKURA Yuji; JP
SAKAMOTO Kunio; JP
KOMURO Hiroyuki; JP
HIRATO Tatsuya; JP
KAJIMA Kazuki; JP
Agent: TODA Yuji; JP
Priority Data:
Title (EN) CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE
(FR) DISPOSITIF À FAISCEAU DE PARTICULES CHARGÉES
(JA) 荷電粒子線装置
Abstract: front page image
(EN) The objective of the invention is to provide a charged particle beam device allowing a user to easily ascertain a variety of information on the charged particle beam device. The charged particle beam device comprises a charged particle source (101) generating a charged particle beam to be irradiated onto a sample, a column (102) wherethrough the charged particle beam passes, and an indicator unit (200) having a plurality of light-emitting elements (201-204) disposed along the column optical axis. The charged particle beam device may also comprise a control unit controlling the light-emitting elements according to the state of the charged particle beam device. The control unit may cause the light-emitting elements to emit light on the basis of a light-emission pattern corresponding to the flow of the charged particle beam. The light-emission pattern may be a pattern corresponding to a physical quantity within the charged particle beam device. The light-emission pattern may be a pattern wherein the flow of light-emitting point among the plurality of light-emitting elements corresponds to the flow of the charged particle beam. The control unit may change the speed of the flow of light-emitting point among the light-emitting elements correspondingly to the charged particle beam acceleration voltage.
(FR) L'invention concerne un dispositif à faisceau de particules chargées permettant à un utilisateur de déterminer facilement diverses informations relatives audit dispositif. Le dispositif à faisceau de particules chargées selon l'invention comprend une source de particules chargées (101) générant un faisceau de particules chargées à irradier sur un échantillon, une colonne (102) à travers laquelle passe le faisceau de particules chargées, ainsi qu'une unité d'indication (200) pourvue d'une pluralité d'éléments électroluminescents (201-204) disposés le long de l'axe optique de colonne. Le dispositif selon l'invention peut également comprendre une unité de commande destinée à commander les éléments électroluminescents selon l'état du dispositif à faisceau de particules chargées. L'unité de commande peut entraîner les éléments électroluminescents à émettre de la lumière selon un motif d'émission de lumière correspondant au flux du faisceau de particules chargées. Le motif d'émission de lumière peut être un motif correspondant à une quantité physique se trouvant à l'intérieur du dispositif à faisceau de particules chargées. Le motif d'émission de lumière peut être un motif dans lequel le flux de point électroluminescents parmi la pluralité d'éléments électroluminescents correspond au flux du faisceau de particules chargées. L'unité de commande peut modifier la vitesse du flux de point électroluminescents parmi les éléments électroluminescents proportionnellement à la tension d'accélération du faisceau de particules chargées.
(JA) 荷電粒子線装置の各種情報をユーザが容易に把握できる荷電粒子線装置を提供することを目的とする。 試料に対して照射するための荷電粒子線を発生する荷電粒子源(101)と、荷電粒子線が通過するカラム(102)と、カラムの光軸に沿って配置された複数の発光素子(201~204)を有する表示部(200)と、を備える。荷電粒子線装置の状態に応じて発光素子を制御する制御部を備えてもよい。該制御部は、荷電粒子線の流れに対応した発光パターンに基づいて、発光素子を発光させてもよい。該発光パターンは、荷電粒子線装置内の物理量に対応するパターンであってもよい。該発光パターンは、複数の発光素子の発光箇所の流れが、荷電粒子線の流れに対応したパターンであってもよい。制御部は、荷電粒子線の加速電圧に対応して、発光素子の発光箇所の流れの速さを変化させてもよい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)