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1. (WO2017178296) PROJECTION EXPOSURE SYSTEM HAVING A SENSOR UNIT FOR DETECTING PARTICLES
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Pub. No.:    WO/2017/178296    International Application No.:    PCT/EP2017/058092
Publication Date: 19.10.2017 International Filing Date: 05.04.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G01N 27/22 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Straße 2 73447 Oberkochen BW (DE)
Inventors: STORM, Arnoldus, Jan; (NL).
EHM, Dirk, Heinrich; (DE).
SCHMIDT, Stefan-Wolfgang; (DE).
WILLEMS-PETERS, Alisia; (NL).
LOGTENBERG, Hella; (NL)
Agent: RAUNECKER, Klaus, Peter; (DE)
Priority Data:
10 2016 206 210.7 13.04.2016 DE
Title (DE) PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT SENSOREINHEIT ZUR PARTIKELDETEKTION
(EN) PROJECTION EXPOSURE SYSTEM HAVING A SENSOR UNIT FOR DETECTING PARTICLES
(FR) INSTALLATION DE LITHOGRAPHIE PAR PROJECTION POURVUE D’UNE UNITÉ DE DÉTECTION DE PARTICULES
Abstract: front page image
(DE)Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (100) für die Halbleiterlithographie mit einer Vorrichtung zur Detektion von in der Anlage befindlichen Partikeln. Dabei enthält die Vorrichtung eine Sensoreinheit (2) zur Aufnahme von Partikeln und eine Auswerteeinheit (3) zur Detektion der von der Sensoreinheit (2) aufgenommenen Partikel. Die Auswerteeinheit (3) ist während des Betriebes der Projektionsbelichtungsanlage (100) mit der Sensoreinheit (2) verbunden und geeignet, aus einer elektrischen Zustandsgroße das Eintreffen oder Vorhandensein von Partikeln zu bestimmen.
(EN)The invention relates to a projection exposure system (100) for semiconductor lithography, comprising a device for detecting particles in the system. The device comprises a sensor unit (2) for capturing particles and an evaluation unit (3) for detecting the particles captured by the sensor unit (2). The evaluation unit (3) is connected to the sensor unit (2) during operation of the projection exposure system (100) and is intended to determine the arrival or presence of particles from an electric state parameter.
(FR)L’invention concerne une installation de lithographie par projection (100) destinée à la lithographie de l’industrie des semi-conducteurs, comprenant un dispositif de détection de particules se trouvant dans l’installation. Ainsi le dispositif contient une unité de détection (2) destinée à la réception de particules et une unité d’évaluation (3) destinée à la détection des particules reçues dans l’unité de détection (2). L’unité d’évaluation (3) est, pendant le fonctionnement de l’installation de lithographie par projection (100), reliée à l’unité de détection (2) et appropriée pour déterminer l’arrivée ou la présence de particules à partir d’une grandeur d’état électrique.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)