WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017178168) HEAT TREATABLE ANTIREFLECTIVE GLASS SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2017/178168    International Application No.:    PCT/EP2017/055849
Publication Date: 19.10.2017 International Filing Date: 13.03.2017
IPC:
C03C 23/00 (2006.01)
Applicants: AGC GLASS EUROPE [BE/BE]; Avenue Jean Monnet, 4 1348 Louvain-La-Neuve (BE).
AGC GLASS COMPANY NORTH AMERICA [US/US]; 11175 Cicero Drive Suite 400 Alpharetta, GA Georgia/Georgia 30022-1167 (US).
ASAHI GLASS CO LTD [JP/JP]; Shin-Marunouchi Building1-5-1 MarunouchiChiyoda Ku Tokyo, Tokyo/Tokyo 100-8405 (JP).
QUERTECH INGÉNIERIE [FR/FR]; 9, rue de la Girafe 14000 Caen (FR)
Inventors: NAVET, Benjamine; (BE).
BOULANGER, Pierre; (BE)
Agent: AGUSTSSON, Sveinn Otto; (BE)
Priority Data:
16164908.2 12.04.2016 EP
Title (EN) HEAT TREATABLE ANTIREFLECTIVE GLASS SUBSTRATE AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
(FR) SUBSTRAT EN VERRE ANTIREFLET POUVANT ÊTRE THERMO-TRAITÉ ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abstract: front page image
(EN)The invention concerns a method for manufacturing heat treatable antireflective glass substrates by ion implantation, comprising selecting a source gas of N2, O2, or Ar, ionizing the source gas so as to form a mixture of single charge and multicharge ions of Ar, N, or O, forming a beam of single charge and multicharge ions of Ar, N, or O by accelerating with an acceleration voltage comprised between 15 kV and 60 kV and setting the ion dosage at a value comprised between 7,5 x 1016 and 7,5 x 1017 ions/cm2. The invention further concerns heat treatable and heat treated antireflective glass substrates comprising an area treated by ion implantation with a mixture of simple charge and multicharge ions according to this method.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de fabriquer des substrats en verre antireflet pouvant être thermo-traités par implantation ionique, ledit procédé consistant à sélectionner un gaz source de N2, d'O2 ou d'Ar, à ioniser le gaz source de manière à former un mélange d'ions à charge unique et à charges multiples d'Ar, de N ou d'O, à former un faisceau d'ions à charge unique et à charges multiples d'Ar, de N ou d'O par accélération avec une tension d'accélération comprise entre 15 kV et 60 kV et à établir la dose d'ions à une valeur comprise entre 7,5 x 1016 et 7,5 x 1017 ions/cm2. L'invention concerne en outre des substrats en verre antireflet pouvant être thermo-traités et des substrats en verre antireflet thermo-traités comprenant une surface traitée par implantation ionique avec un mélange d'ions à charge unique et à charges multiples selon ledit procédé.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)