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1. (WO2017177968) ABSOLUTE GRATING SCALE
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Pub. No.:    WO/2017/177968    International Application No.:    PCT/CN2017/080590
Publication Date: 19.10.2017 International Filing Date: 14.04.2017
IPC:
G01D 5/38 (2006.01), G01B 11/02 (2006.01)
Applicants: GRADUATE SCHOOL AT SHENZHEN, TSINGHUA UNIVERSITY [CN/CN]; Tsinghua Campus, University Town Xili, Nanshan District Shenzhen, Guangdong 518055 (CN)
Inventors: LI, Xinghui; (CN).
NI, Kai; (CN).
WANG, Huanhuan; (CN).
ZHOU, Qian; (CN).
WANG, Xiaohao; (CN).
MAO, Xinyu; (CN).
ZENG, Lijiang; (CN).
XIAO, Xiang; (CN)
Agent: CHINA TRUER IP; 10A3, Jiangxi Shiji Haoting Building (Jiangxi Building) Shennan Road South, Chegong Miao, Futian District Shenzhen, Guangdong 518040 (CN)
Priority Data:
201610234556.6 14.04.2016 CN
Title (EN) ABSOLUTE GRATING SCALE
(FR) ÉCHELLE DE RÉSEAU ABSOLUE
(ZH) 一种绝对式光栅尺
Abstract: front page image
(EN)An absolute grating scale. A plurality of reference coding channels (2) is disposed on a main grating (15), and the distance between any two adjacent reference coding channels (2) is different from the distance between any other two adjacent reference coding channels (2). A first spectroscope (12) divides light from a light source (11) into a beam emitted to the main grating (15) and a beam emitted to an incremental displacement measurement unit (23). The light emitted to the main grating (15) passes through a mask plate (13) and reaches the main grating (15) and is reflected, and then the beam again passes through the mask plate (13) and is received by a reference position photoelectric detector (14). Coding channels that are same as the reference coding channels (2) are disposed on the mask plate (13). The position of the mask plate (13) is disposed as that: the mask plate (13) inclines a small angle around a θx direction, so that after the beam emitted to the mask plate (13) is reflected by the mask plate (13), the beam is not received by the reference position photoelectric detector (14). The reference signal contrast ratio can be improved, and the reference point positioning accuracy of 0.6 μm is achieved.
(FR)La présente invention porte sur une échelle de réseau absolue. Une pluralité de canaux de codage de référence (2) est agencée sur un réseau principal (15), et la distance entre deux canaux de codage de référence adjacents quelconques (2) est différente de la distance entre deux autres canaux de codage de référence adjacents (2). Un premier spectroscope (12) divise la lumière provenant d'une source lumineuse (11) en un faisceau émis vers le réseau principal (15) et un faisceau émis vers une unité de mesure de déplacement incrémentiel (23). La lumière émise vers le réseau principal (15) passe à travers une plaque de masque (13) et atteint le réseau principal (15) et est réfléchie, et puis le faisceau passe à nouveau à travers la plaque de masque (13) et est reçu par un détecteur photoélectrique de position de référence (14). Des canaux de codage qui sont identiques aux canaux de codage de référence (2) sont agencés sur la plaque de masque (13). La position de la plaque de masque (13) est agencée de telle sorte que : la plaque de masque (13) s'incline d'un petit angle autour d'une direction θx, de telle sorte que, après que le faisceau émis vers la plaque de masque (13) est réfléchi par la plaque de masque (13), le faisceau n'est pas reçu par le détecteur photoélectrique de position de référence (14). Le rapport de contraste du signal de référence peut être amélioré, et la précision de positionnement de point de référence de 0,6 µm est obtenue.
(ZH)一种绝对式光栅尺,其中,主光栅(15)上分布有若干个参考编码道(2),任意相邻的两个参考编码道(2)之间的距离与其余任意相邻的两个参考编码道(2)之间的距离不相同,第一分光镜(12)将光源(11)的光分成射向主光栅(15)的光束和射向增量位移测量单元(23)的光束,射向主光栅(15)的光束经过掩膜板(13)到达主光栅(15)并被反射后,再次经过掩膜板(13)后被参考位置光电探测器(14)接收,掩膜板(13)上设有与参考编码道(2)相同的编码道,掩膜板(13)的位置设置成:掩膜板(13)绕θx方向倾斜一个小的角度,使得射向掩膜板(13)的光束被掩膜板(13)反射后不被参考位置光电探测器(14)接收,可以增强参考信号对比度,实现0.6μm的参考点定位精度。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)