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1. (WO2017175644) CHLORINE FLUORIDE SUPPLYING METHOD
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Pub. No.:    WO/2017/175644    International Application No.:    PCT/JP2017/012984
Publication Date: 12.10.2017 International Filing Date: 29.03.2017
IPC:
C01B 7/24 (2006.01), C07B 39/00 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01)
Applicants: KANTO DENKA KOGYO CO., LTD. [JP/JP]; 2-105, Kanda-Awajicho, Chiyoda-ku, Tokyo 1010063 (JP)
Inventors: TAKAHASHI, Yoshinao; (JP).
KATO, Korehito; (JP).
SAKURAI, Yoshimasa; (JP).
TAKIZAWA, Hiroki; (JP).
KIKUCHI, Sho; (JP).
KAWAGUCHI, Shinichi; (JP).
IKETANI, Yoshihiko; (JP).
SHIBUSAWA, Yukinobu; (JP)
Agent: ONO, Shinjiro; (JP).
YAMAMOTO, Osamu; (JP).
MIYAMAE, Toru; (JP).
NAKANISHI, Motoharu; (JP).
MATSUDA, Toyoharu; (JP)
Priority Data:
2016-075906 05.04.2016 JP
Title (EN) CHLORINE FLUORIDE SUPPLYING METHOD
(FR) PROCÉDÉ D’ALIMENTATION EN FLUORURE DE CHLORE
(JA) フッ化塩素の供給方法
Abstract: front page image
(EN)Provided are a chlorine fluoride supplying device and a chlorine fluoride supplying method which are capable of stably generating chlorine fluoride (ClF) for industrial use, controlling flow rate thereof, and continuously supplying the same. This chlorine fluoride supplying method is a method for supplying chlorine fluoride that is generated by introducing a gas that includes fluorine atoms and a gas that includes chlorine atoms into a flow type heated reactor or a plasma reactor. In this chlorine fluoride supplying method, it is possible to stably generate, as well as safely continue supplying over a long period of time, chlorine fluoride, which due to the difficulties of high pressure filling thereof can only be filled into a gas container such as a cylinder in limited amounts, by reacting two or more types of gas material that can be safely liquefied and filled into a gas container or by reacting similar gas material with a solid material.
(FR)La présente invention décrit un dispositif d’alimentation en fluorure de chlore et un procédé d’alimentation en fluorure de chlore qui sont capables de produire de manière stable du fluorure de chlore (CIF) pour une utilisation industrielle, la régulation de son débit d’écoulement, et son alimentation de manière continue. Ce procédé d’alimentation en fluorure de chlore est un procédé d’alimentation en fluorure de chlore qui est généré par l’introduction d’un gaz qui comprend des atomes de fluor et un gaz qui comprend des atomes de chlore dans un réacteur chauffé de type à écoulement ou dans un réacteur à plasma. Dans ce procédé d’alimentation en fluorure de chlore, il est possible de générer de manière stable, ainsi que d’alimenter de manière continue en toute sécurité sur une longue durée, du fluorure de chlore, qui, dû à des difficultés de son remplissage sous haute pression peut uniquement être rempli dans un conteneur de gaz tel qu’une bonbonne en quantités limitées, en faisant réagir deux ou plusieurs types de matériau gazeux qui peuvent être liquéfiés sans danger et remplis dans un conteneur de gaz ou en faisant réagir un matériau gazeux semblable avec un matériau solide.
(JA)産業上利用されるフッ化塩素(ClF)を安定的に発生させ、流量を制御し、連続的に供給できる、フッ化塩素供給装置および供給方法を提供する。 本発明のフッ化塩素の供給方法は、フッ素原子を含むガスと塩素原子を含むガスを流通式の加熱反応装置、もしくはプラズマ反応装置に導入することにより発生したフッ化塩素を供給する供給方法であって、高圧充填が困難で、ボンベ等のガス容器に充填できる量が限られるフッ化塩素を、ガス容器に安全に液化充填が可能な2種類以上のガス原料、もしくはこのようなガス原料と固体原料とを反応させることで、フッ化塩素を安定的に発生し、安全に長時間供給し続けることが可能である。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)