WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017175556) SURFACE TREATMENT METHOD AND MASK, AND SURFACE TREATMENT DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2017/175556    International Application No.:    PCT/JP2017/010567
Publication Date: 12.10.2017 International Filing Date: 16.03.2017
IPC:
G03F 1/38 (2012.01), G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 1-6-5, Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo 1008150 (JP)
Inventors: HIROSE, Kenichi; (JP)
Agent: OHI, Masahiko; (JP)
Priority Data:
2016-075761 05.04.2016 JP
Title (EN) SURFACE TREATMENT METHOD AND MASK, AND SURFACE TREATMENT DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE TRAITEMENT DE SURFACE ET MASQUE, ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SURFACE
(JA) 表面処理方法およびマスク並びに表面処理装置
Abstract: front page image
(EN)The purpose of the present invention is to provide a surface treatment method with which it is possible to perform, efficiently and at a high resolution, a surface treatment using vacuum UV light on an item to be treated, a mask 10a (10b) used in the surface treatment method, and a surface treatment device. In the present invention, when an item to be treated is irradiated with vacuum UV light in the presence of oxygen through a mask in which a patterned light-shielding part 15 is formed on the surface of a light-transmitting substrate 11, whereby a specific surface-modified region is formed on the surface of the item to be treated, a mask in which the thickness of the region forming a translucent part 12 on the light-transmitting substrate is less than that of the region in which the light-shielding part is formed, or a mask in which the difference between the surface level of the light-shielding part and the surface level of a translucent part adjacent to the light-shielding part is 1 μm or greater is used.
(FR)L'objet de la présente invention est de fournir un procédé de traitement de surface avec lequel il est possible d'effectuer, de manière efficace et à une résolution élevée, un traitement de surface utilisant une lumière UV sous vide sur un article à traiter, un masque 10a (10b) utilisé dans le procédé de traitement de surface, et un dispositif de traitement de surface. Selon la présente invention, lorsqu'un article à traiter est exposé à une lumière UV sous vide en présence d'oxygène à travers un masque dans lequel une partie de protection contre une lumière à motifs (15) est formée sur la surface d'un substrat de transmission de lumière (11), moyennant quoi une région à modification de surface spécifique est formée sur la surface de l'article à traiter, un masque dans lequel l'épaisseur de la région formant une partie translucide (12) sur le substrat de transmission de lumière est inférieure à celle de la région dans laquelle la partie de protection contre la lumière est formée, ou un masque dans lequel la différence entre le niveau de surface de la partie de protection contre la lumière et le niveau de surface d'une partie translucide adjacente à la partie de protection contre la lumière est supérieure ou égale à 1 µm est utilisé.
(JA)本発明は、真空紫外光を利用した被処理物の表面処理を高い解像度で効率よく行うことのできる表面処理方法および当該表面処理方法において用いられるマスク10a(10b)並びに表面処理装置を提供することを目的とする。 本発明においては、酸素の存在下において、光透過性基板11の表面にパターン化された遮光部15が形成されたマスクを介して、真空紫外光を被処理物に照射することにより、当該被処理物の表面に特定の表面変性領域を形成するに際して、マスクとして、光透過性基板における透光部12を形成する領域の厚さが、遮光部が形成された領域の厚さより小さいもの、もしくは、遮光部の表面レベルと、遮光部に隣接する透光部の表面レベルとの差が1μm以上であるものが用いられる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)