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1. (WO2017175303) SAMPLE SHAPE MEASUREMENT METHOD AND SAMPLE SHAPE MEASUREMENT DEVICE
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2017/175303 International Application No.: PCT/JP2016/061113
Publication Date: 12.10.2017 International Filing Date: 05.04.2016
IPC:
G01B 11/24 (2006.01) ,G01B 11/26 (2006.01)
Applicants: OLYMPUS CORPORATION[JP/JP]; 2951, Ishikawa-machi, Hachioji-shi, Tokyo 1928507, JP
Inventors: SUZUKI Yoshimasa; JP
Agent: SAITO Keisuke; JP
Priority Data:
Title (EN) SAMPLE SHAPE MEASUREMENT METHOD AND SAMPLE SHAPE MEASUREMENT DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE MESURE DE FORME D'ÉCHANTILLON ET DISPOSITIF DE MESURE DE FORME D'ÉCHANTILLON
(JA) 標本形状測定方法及び標本形状測定装置
Abstract: front page image
(EN) This sample shape measurement method includes a step S10 in which illuminating light that passes through a predetermined illumination region is prepared, a step S20 in which a sample is irradiated with illuminating light, and a predetermined processing step S30. The predetermined illumination region is set so that the area of a region in which illuminating light passes through the pupil of an observation optical system becomes smaller than the area of the pupil of the observation optical system. The illuminating light passes through the sample, light emitted from the sample enters the observation optical system, and the predetermined processing step S30 includes: a step S31 in which light emitted from the observation optical system is received; a step S32 in which the position of an image of the predetermined illumination region is calculated from the received light; a step S33 in which the difference between the position of the image of the predetermined illumination region and a reference position is calculated; and a step S34 in which an inclination amount in the surface of the sample is calculated from the calculated difference.
(FR) L'invention concerne un procédé de mesure de forme d'échantillon qui comprend une étape (S10) dans laquelle une lumière d'éclairage qui passe à travers une région d'éclairage prédéterminée est préparée, une étape (S20) dans laquelle un échantillon est irradié avec la lumière d'éclairage, et une étape de traitement prédéterminé (S30). La région d'éclairage prédéterminée est définie de telle sorte que la zone d'une région dans laquelle la lumière d'éclairage passe à travers la pupille d'un système optique d'observation devient plus petite que la zone de la pupille du système optique d'observation. La lumière d'éclairage passe à travers l'échantillon, la lumière émise par l'échantillon entre dans le système optique d'observation, et l'étape de traitement prédéterminé (S30) comprend : une étape (S31) dans laquelle la lumière émise par le système optique d'observation est reçue ; une étape (S32) dans laquelle la position d'une image de la région d'éclairage prédéterminée est calculée à partir de la lumière reçue ; une étape (S33) dans laquelle la différence entre la position de l'image de la région d'éclairage prédéterminée et une position de référence est calculée ; et une étape (S34) dans laquelle une amplitude d'inclinaison dans la surface de l'échantillon est calculée à partir de la différence calculée.
(JA)  標本形状測定方法は、所定の照明領域を通過する照明光を準備するステップS10と、照明光を標本に照射するステップS20と、所定の処理ステップS30と、を有し、観察光学系の瞳を通過する照明光の領域の面積が、観察光学系の瞳の面積よりも小さくなるように、所定の照明領域が設定され、照明光は標本を透過し、標本から出射した光は観察光学系に入射し、所定の処理ステップS30は、観察光学系から出射した光を受光するステップS31と、受光した光から所定の照明領域の像の位置を算出するステップS32と、所定の照明領域の像の位置と基準の位置との差を算出するステップS33と、算出した差から、標本の表面における傾き量を算出するステップS34と、を有する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)