WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017174423) EUV COLLECTOR FOR USE IN AN EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2017/174423    International Application No.:    PCT/EP2017/057485
Publication Date: 12.10.2017 International Filing Date: 30.03.2017
IPC:
G02B 19/00 (2006.01), G02B 5/18 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), G02B 27/42 (2006.01)
Applicants: CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Strasse 2 73447 Oberkochen (DE)
Inventors: KIEREY, Holger; (DE).
ZELLNER, Johannes; (DE)
Agent: RAU, SCHNECK & HÜBNER PATENTANWÄLTE RECHTSANWÄLTE PARTGMBB; Königstrasse 2 90402 Nürnberg (DE)
Priority Data:
10 2016 205 893.2 08.04.2016 DE
Title (EN) EUV COLLECTOR FOR USE IN AN EUV PROJECTION EXPOSURE APPARATUS
(FR) COLLECTEUR EUV DESTINÉ À ÊTRE UTILISÉ DANS UN APPAREIL D'EXPOSITION PAR PROJECTION EUV
Abstract: front page image
(EN)An EUV collector (24) serves for use in an EUV projection exposure apparatus. The collector (24) is embodied to guide EUV used light, which is emitted by a plasma source region. An overall impingement surface (34) of the collector (24) is embodied for impingement with radiation (3, 31) emitted by the plasma source region consisting of both the EUV light and pump laser light. A used light portion (35) of the overall impingement surface (34) is embodied to guide the EUV used light (3). An extraneous light portion (36) of the overall impingement surface (34) is embodied to be impinged upon by extraneous pump laser light radiation reflected from the plasma source (31), the wavelength of which differs from that of the used light (3). The used light portion (35) and the extraneous light portion (36) are not congruent. This results in an EUV collector, the collector efficiency of which is increased and the production costs of which are possibly reduced. The zone fro reflection of laser light is covered by a suitable diffractive grating structure.
(FR)La présente invention a trait à un collecteur EUV (24) qui est destiné à être utilisé dans un appareil d'exposition par projection EUV. Le collecteur (24) est conçu pour guider la lumière EUV utilisée, qui est émise par une région source de plasma. Une surface d'exposition globale (34) du collecteur (24) est prévue pour être exposée à un rayonnement (3, 31) émis par la région source de plasma. Une partie de lumière utilisée (35) de la surface d'exposition globale (34) est destinée à guider la lumière EUV utilisée (3). Une partie de lumière parasite (36) de ladite surface d'exposition globale (34) est conçue pour être exposée à un rayonnement lumineux parasite (31), la longueur d'onde de ce rayonnement différant de celle de la lumière utilisée (3). La partie de lumière utilisée (35) et la partie de lumière parasite (36) ne sont pas congruentes. Un collecteur EUV est ainsi obtenu, son rendement étant supérieur et ses coûts de fabrication pouvant être réduits. La zone de réflexion de la lumière laser est couverte d'une structure de réseau de diffraction adéquate.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)