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1. (WO2017173094) APPARATUS AND METHODS FOR WAFER ROTATION IN CAROUSEL SUSCEPTOR
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Pub. No.:    WO/2017/173094    International Application No.:    PCT/US2017/025041
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 30.03.2017
IPC:
H01L 21/02 (2006.01), H01L 21/683 (2006.01), H01L 21/687 (2006.01), H01L 21/205 (2006.01)
Applicants: APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: GANGAKHEDKAR, Kaushal; (US).
YUDOVSKY, Joseph; (US)
Agent: BLANKMAN, Jeffrey I.; (US)
Priority Data:
62/317,531 02.04.2016 US
Title (EN) APPARATUS AND METHODS FOR WAFER ROTATION IN CAROUSEL SUSCEPTOR
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉS DE ROTATION DE GALETTE DANS UN SUSCEPTEUR DE CARROUSEL
Abstract: front page image
(EN)Apparatus and method for processing a plurality of substrates in a batch processing chamber are described. The apparatus comprises a susceptor assembly, a lift assembly and a rotation assembly. The susceptor assembly has a top surface and a bottom surface with a plurality of recesses in the top surface. Each of the recesses has a lift pocket in the recess bottom. The lift assembly including a lift plate having a top surface to contact the substrate. The lift plate is connected to a lift shaft that extends through the susceptor assembly and connects to a lift friction pad. The rotation assembly has a rotation friction pad that contacts the lift friction pad. The rotation friction pad is connected to a rotation shaft and can be vertically aligned with the lift friction pad.
(FR)L'invention concerne un appareil et un procédé de traitement d'une pluralité de substrats dans une chambre de traitement par lots. L'appareil comprend un ensemble suscepteur, un ensemble de levage et un ensemble de rotation. L'ensemble suscepteur comprend une surface supérieure et une surface inférieure avec une pluralité d'évidements dans la surface supérieure. Chacun des évidements comprend une poche de levage dans le fond de l'évidement. L'ensemble de levage comprend une plaque de levage pourvue d'une surface supérieure destinée à entrer en contact avec le substrat. La plaque de levage est reliée à un arbre de levage qui s'étend à travers l'ensemble suscepteur et qui est relié à un patin de frottement de levage. L'ensemble de rotation comprend un patin de frottement de rotation qui entre en contact avec le patin de frottement de levage. Le patin de frottement de rotation est relié à un arbre de rotation et peut être aligné verticalement avec le patin de frottement de levage.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)