US2017024332 ALL SURFACE FILM METROLOGY SYSTEM

1. (WO2017172627) ALL SURFACE FILM METROLOGY SYSTEM

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Pub. No.:		WO/2017/172627		International Application No.:		PCT/US2017/024332
Publication Date:		05.10.2017		International Filing Date:		27.03.2017

IPC:

H01L 21/66 (2006.01)

Applicants:

KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035 (US)

Inventors:

LI, Shifang; (US).
NICOLAIDES, Lena; (US).
HORN, Paul; (US).
GRAETZ, Richard; (US)

Agent:

MCANDREWS, Kevin; (US).
MORRIS, Elizabeth M. N.; (US)

Priority Data:

62/314,276		28.03.2016		US
15/255,605		02.09.2016		US

Title

(EN) ALL SURFACE FILM METROLOGY SYSTEM
(FR) SYSTÈME DE MÉTROLOGIE DE TOUTE LA SURFACE D'UN FILM

Abstract:

(EN)A system is configured to perform metrology on a front surface, a back surface opposite the front surface, and/or an edge between the front surface and the back surface of a wafer. This can provide all wafer metrology and/or metrology of thin films on the back surface of the wafer. In an example, the thickness and/or optical properties of a thin film on a back surface of a wafer can be determined using a ratio of a greyscale image of a bright field light emerging from the back surface of the wafer under test to that of a reference wafer.
(FR)L'invention concerne un système conçu pour procéder à la métrologie sur une surface avant, une surface arrière opposée à la surface avant, et/ou un bord entre la surface avant et la surface arrière d'une plaquette. Ceci permet de réaliser la métrologie de toute la plaquette et/ou la métrologie de films minces sur la surface arrière de la plaquette. Dans un exemple, l'épaisseur et/ou les propriétés optiques d'un film mince sur une surface arrière d'une plaquette peuvent être déterminées à l'aide d'un rapport d'une image en niveaux de gris d'une lumière de champ clair émergeant de la surface arrière de la plaquette en cours de test à celle d'une plaquette de référence.

Designated States:

AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).

Publication Language:	English (EN)
Filing Language:	English (EN)

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