WIPO logo
Mobile | Deutsch | Español | Français | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Search International and National Patent Collections
World Intellectual Property Organization
Search
 
Browse
 
Translate
 
Options
 
News
 
Login
 
Help
 
Machine translation
1. (WO2017172199) A MECHANISM FOR HIGHLY AVAILABLE RACK MANAGEMENT IN RACK SCALE ENVIRONMENT
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.:    WO/2017/172199    International Application No.:    PCT/US2017/020118
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 01.03.2017
IPC:
G06F 13/40 (2006.01), G06F 1/26 (2006.01)
Applicants: INTEL CORPORATION [US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054 (US)
Inventors: KUMAR, Mohan J.; (US).
NACHIMUTHU, Murugasamy K.; (US)
Agent: BURNETT, R. Alan; (US)
Priority Data:
15/089,377 01.04.2016 US
Title (EN) A MECHANISM FOR HIGHLY AVAILABLE RACK MANAGEMENT IN RACK SCALE ENVIRONMENT
(FR) MÉCANISME DE GESTION DE BAIE À HAUTE DISPONIBILITÉ DANS UN ENVIRONNEMENT D'ÉCHELLE DE BAIE
Abstract: front page image
(EN)Methods and apparatus for highly available rack management in Rack Scale environment. Rack Management Modules (RMMs) are configured to manage power and thermal zones in a rack including a plurality of pooled system drawers, wherein each pooled system drawer is associated with a respective power zone including power sensors and power control devices and a respective thermal zone including thermal sensors and thermal devices. During operation, one of the RMMs is implemented as a master RMM, and the other is implemented as a slave RMM. The master RMM is used to monitor the power and thermal zones. State information is periodically synchronized between the master RMM and the slave RMM. The RMMs are further configured to perform a fail-over operation in connection with a failed or failing RMM, where after the fail-over operation the slave becomes the new master RMM and the previous master RMM becomes the new slave.
(FR)L'invention concerne des procédés et un appareil de gestion de baie à haute disponibilité dans un environnement d'échelle de baie. Des modules de gestion de baie (RMM) sont conçus pour gérer des zones de puissance et des zones thermiques dans une baie comprenant une pluralité de tiroirs de système groupés, chaque tiroir de système groupé étant associé à une zone de puissance respective comprenant des capteurs de puissance et des dispositifs de commande de puissance et une zone thermique respective comprenant des capteurs thermiques et des dispositifs thermiques. Pendant le fonctionnement, l'un des RMM est exploité en tant que RMM maître et l'autre est exploité en tant que RMM esclave. Le RMM maître est utilisé pour surveiller les zones de puissance et les zones thermiques. Des informations d'état sont périodiquement synchronisées entre le RMM maître et le RMM esclave. Les RMM sont en outre conçus pour effectuer une opération de reprise en liaison avec un RMM défaillant ou en cours de défaillance, l'esclave devenant, après l'opération de reprise, le nouveau RMM maître et le RMM maître précédent devenant le nouvel esclave.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)