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1. (WO2017171761) ETCHING FIN CORE TO PROVIDE FIN DOUBLING
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Pub. No.: WO/2017/171761 International Application No.: PCT/US2016/025076
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 30.03.2016
IPC:
H01L 21/336 (2006.01) ,H01L 29/78 (2006.01)
Applicants: INTEL CORPORATION[US/US]; 2200 Mission College Boulevard Santa Clara, California 95054, US
Inventors: MOHAPATRA, Chandra S.; US
GLASS, Glenn A.; US
MURTHY, Anand S.; US
JAMBUNATHAN, Karthik; US
Agent: BRASK, Justin, K.; US
Priority Data:
Title (EN) ETCHING FIN CORE TO PROVIDE FIN DOUBLING
(FR) GRAVURE DE NOYAU D'AILETTE POUR L'OBTENTION D'UN DOUBLAGE D'AILETTE
Abstract: front page image
(EN) A replacement fin layer is deposited on a sub-fin layer in trenches isolated by an insulating layer on a substrate. The replacement fin layer has first component rich side portions and a second component rich core portion. The second component rich core portion is etched to generate a double fin structure comprising the first component rich fins.
(FR) Selon l'invention, une couche d'ailette de remplacement est déposée sur une couche de sous-ailette dans des tranchées isolées par une couche isolante sur un substrat. La couche d'ailette de remplacement possède des parties latérales riches en un premier constituant et une partie de noyau riche en un second constituant. La partie de noyau riche en un second constituant est gravée pour générer une structure de double ailette comprenant les ailettes riches en un premier constituant.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)