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1. (WO2017170513) BEAM SCANNING DEVICE AND PATTERN RENDERING APPARATUS
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Pub. No.: WO/2017/170513 International Application No.: PCT/JP2017/012583
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 28.03.2017
IPC:
G02B 26/12 (2006.01) ,B41J 2/47 (2006.01) ,G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 7/24 (2006.01) ,H04N 1/113 (2006.01)
Applicants: NIKON CORPORATION[JP/JP]; 15-3, Konan 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1086290, JP
Inventors: SUZUKI Tomonari; JP
KATO Masaki; JP
KIUCHI Tohru; JP
Agent: CHIBA Yoshihiro; JP
MIYADERA Toshiyuki; JP
SENBA Takayuki; JP
OUCHI Hideharu; JP
NAKASONE Yasuharu; JP
SAKAI Shiro; JP
SEKIGUCHI Kosuke; JP
Priority Data:
2016-06779430.03.2016JP
Title (EN) BEAM SCANNING DEVICE AND PATTERN RENDERING APPARATUS
(FR) DISPOSITIF DE BALAYAGE DE FAISCEAU ET APPAREIL DE RESTITUTION DE MOTIF
(JA) ビーム走査装置およびパターン描画装置
Abstract: front page image
(EN) A scanning unit (Un) for projecting, to a substrate (P), a beam (LBn) deflected by a polygon mirror (PM) having a reflection plane the angle of which changes is provided with: a re-reflection optical system (CY2, M10) which generates a second reflected beam (LBn) directed to the polygon mirror (PM) by reflecting a first reflected beam (LBn) reflected first by the polygon mirror (PM), and converges the second reflected beam (LBn) in a non-deflection direction crossing with the deflection direction of the polygon mirror (PM); and a scanning optical system (FT, CY3) on which a third reflected beam (LBn) generated by reflecting the second reflected beam (LBn) again by the polygon mirror (PM) is incident and which emits the third reflected beam to the substrate (P).
(FR) L'invention concerne une unité de balayage (Un) pour projeter, sur un substrat (P), un faisceau (LBn) dévié par un miroir polygonal (PM) ayant un plan de réflexion dont l'angle change, laquelle unité de balayage comporte : un système optique de re-réflexion (CY2, M10) qui génère un deuxième faisceau réfléchi (LBn) dirigé vers le miroir polygonal (PM) par réflexion d'un premier faisceau réfléchi (LBn) réfléchi en premier par le miroir polygonal (PM), et fait converger le deuxième faisceau réfléchi (LBn) dans une direction de non-déviation croisant la direction de déviation du miroir polygonal (PM) ; et un système optique de balayage (FT, CY3) sur lequel un troisième faisceau réfléchi (LBn) généré par réflexion à nouveau du deuxième faisceau réfléchi (LBn) par le miroir polygonal (PM) est incident et qui émet le troisième faisceau réfléchi vers le substrat (P).
(JA) 反射面の角度が変わるポリゴンミラー(PM)によって偏向されたビーム(LBn)を基板(P)に投射する走査ユニット(Un)は、ポリゴンミラー(PM)で最初に反射された第1の反射ビーム(LBn)を反射してポリゴンミラー(PM)に向かう第2の反射ビーム(LBn)を生成するとともに、ポリゴンミラー(PM)の偏向方向と交差した非偏向方向に関して第2の反射ビーム(LBn)を収斂させる再反射光学系(CY2、M10)と、第2の反射ビーム(LBn)がポリゴンミラー(PM)で再度反射した第3の反射ビーム(LBn)を入射し、基板(P)に向けて射出する走査用光学系(FT、CY3)と、を備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)