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1. (WO2017170210) SURFACE-MODIFIED POROUS FILM AND PRODUCTION METHOD FOR SAME
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Pub. No.:    WO/2017/170210    International Application No.:    PCT/JP2017/011971
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 24.03.2017
IPC:
B01D 69/12 (2006.01), B01D 71/34 (2006.01)
Applicants: TOSOH CORPORATION [JP/JP]; 4560, Kaisei-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7468501 (JP)
Inventors: INOUE Hiroshi; (JP).
TOUGOU Eiichi; (JP).
SUZUKI Mayuka; (JP).
TSUNETOH Yukio; (JP)
Priority Data:
2016-072996 31.03.2016 JP
2017-002893 11.01.2017 JP
Title (EN) SURFACE-MODIFIED POROUS FILM AND PRODUCTION METHOD FOR SAME
(FR) FILM POREUX MODIFIÉ EN SURFACE ET PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE CELUI-CI
(JA) 表面修飾多孔質膜及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)The present invention relates to a surface-modified porous film, and is able to modify the surface of a porous film by simple methods using coating and UV irradiation, so as to impart functionality thereto. Enhanced functionality and durability can be imparted to a surface-modified porous film by: selecting a functional component containing an electrically neutral (having no apparent charge) hydrophilic group for a functional polymer layer; introducing a component that has a nitrene precursor functional group in a specific proportion; and causing the functional polymer layer to be formed in a thickness of 5-100 nm on the surface of the porous film.
(FR)La présente invention concerne un film poreux modifié en surface, et peut modifier la surface d'un film poreux par des procédés simples utilisant un revêtement et un rayonnement UV, de façon à conférer une fonctionnalité à celui-ci. Une fonctionnalité et une durabilité améliorées peuvent être conférées à un film poreux modifié en surface grâce aux opérations suivantes : sélectionner un composant fonctionnel contenant un groupe hydrophile électriquement neutre (n'ayant pas de charge apparente) pour une couche de polymère fonctionnel ; introduire un composant qui comporte un groupe fonctionnel précurseur du nitrène avec une proportion spécifique ; et provoquer la formation de la couche de polymère fonctionnel avec une épaisseur de 5 à 100 nm sur la surface du film poreux.
(JA)本発明は、表面修飾多孔質膜に関するものであり、多孔質膜の表面をコーティングとUV照射といった簡便な方法で修飾し、機能を付与することができる。 機能性ポリマー層に電気的に中性(見かけ上電荷を持たない)の親水性基を含む機能性成分を選定すること、特定の割合でニトレン前駆体官能基を有する成分を導入すること、および機能性ポリマー層を多孔質膜表面に5~100nmの厚みで形成させることで、表面修飾多孔質膜に高機能と耐久性を付与できる。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)