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1. (WO2017169971) NOVEL COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME
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Pub. No.:    WO/2017/169971    International Application No.:    PCT/JP2017/011172
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 21.03.2017
IPC:
C07D 235/18 (2006.01), H01L 51/05 (2006.01), H01L 51/30 (2006.01), H01L 51/46 (2006.01), H01L 51/50 (2006.01)
Applicants: SUMITOMO CHEMICAL COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 27-1, Shinkawa 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048260 (JP).
CAMBRIDGE DISPLAY TECHNOLOGY LIMITED [GB/GB]; Unit 12 Cardinal Park, Cardinal Way, Godmanchester, Cambridgeshire PE292XG (GB)
Inventors: KOBAYASHI Satoshi; (JP).
IIJIMA Takayuki; (JP).
AKINO Nobuhiko; (JP).
ZUBERI Sheena; (GB)
Agent: HASEGAWA Yoshiki; (JP).
SHIMIZU Yoshinori; (JP).
MIKAMI Takafumi; (JP)
Priority Data:
2016-066102 29.03.2016 JP
Title (EN) NOVEL COMPOUND AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) NOUVEAU COMPOSÉ ET PROCÉDÉ POUR SA PRODUCTION
(JA) 新規化合物及びその製造方法
Abstract: front page image
(EN)A compound represented by formula (1) [wherein A1's independently represent an oxygen atom, a sulfur atom, -NR5- or -PR5-, wherein at least one of A1's represents -NR5- or -PR5-; R1 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an alkylsulphenyl group, a cycloalkylsulphenyl group, an arylsulphenyl group or a di-substituted amino group; R2 and R3 independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an alkylsulfenyl group, a cycloalkylsulfenyl group, an arylsulfenyl group, a monovalent heterocyclic group, a halogen atom or a di-substituted amino group; R4 represents a hydrogen atom, -C(R6)3, -OR7, -N(R7)2 or -Si(R7)3; m represents an integer of 0 to 3; and n represents an integer of 0 to 4.]
(FR)L'invention concerne un composé représenté par la formule (1) [dans laquelle les radicaux A1 représentent, indépendamment, un atome d'oxygène, un atome de soufre, -NR5- ou -PR5-, au moins l'un des radicaux A1 représentant -NR5- ou -PR5- ; R1 représente un atome d'halogène, un groupe alkyle, un groupe cycloalkyle, un groupe alcoxy, un groupe cycloalcoxy, un groupe aryloxy, un groupe alkylsulfényle, un groupe cycloalkylsulfényle, un groupe arylsulfényle ou un groupe amino disubstitué ; R2 et R3 représentent, indépendamment, un groupe alkyle, un groupe cycloalkyle, un groupe aryle, un groupe alcoxy, un groupe cycloalcoxy, un groupe aryloxy, un groupe alkylsulfényle, un groupe cycloalkylsulfényle, un groupe arylsulfényle, un groupe hétérocyclique monovalent, un atome d'halogène ou un groupe amino disubstitué ; R4 représente un atome d'hydrogène, -C(R6)3, -OR7, -N(R7)2 ou -Si(R7)3 ; m représente un entier de 0 à 3 ; et n représente un entier de 0 à 4].
(JA)式(1)で表される化合物。[式中、 Aは酸素原子、硫黄原子、-NR-又は-PR-を表し、少なくとも1つのAは-NR-又は-PR-である。 Rは水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基又は2置換アミノ基を表す。 R及びRはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルスルフェニル基、シクロアルキルスルフェニル基、アリールスルフェニル基、1価の複素環基、ハロゲン原子又は2置換アミノ基を表す。 Rは水素原子、-C(R、-OR、-N(R又は-Si(Rを表す。 mは0~3の整数を表す。 nは0~4の整数を表す。]
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)