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1. (WO2017169970) BATTERY ELECTRODE PRODUCTION METHOD AND ELECTRODE PRODUCTION DEVICE
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Pub. No.:    WO/2017/169970    International Application No.:    PCT/JP2017/011164
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 21.03.2017
IPC:
H01M 4/04 (2006.01), H01M 2/34 (2006.01), H01M 4/139 (2010.01)
Applicants: NEC CORPORATION [JP/JP]; 7-1, Shiba 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1088001 (JP)
Inventors: OTOHATA, Makihiro; (JP)
Agent: ITO, Katsuhiro; (JP).
ONO, Akiko; (JP)
Priority Data:
2016-068340 30.03.2016 JP
Title (EN) BATTERY ELECTRODE PRODUCTION METHOD AND ELECTRODE PRODUCTION DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'ÉLECTRODE DE BATTERIE ET DISPOSITIF DE PRODUCTION D'ÉLECTRODE
(JA) 電池用電極の製造方法および電極製造装置
Abstract: front page image
(EN)This electrode production method is characterized by the inclusion of a first layer forming step of forming a first layer on a collector foil by intermittent coating at a thickness of between 40 μm and 300 μm inclusive, and a second layer forming step of forming a second layer over a region where the first layer has been formed on the collector foil, and an exposed region where no first layer has been formed and the collector foil is exposed. In the second layer forming step, a gap between the collector foil and a coating unit from the coating device is widened to 40 μm or more on the basis of the first layer positional information between when the exposed region is being coated over and when the first layer is being coated over.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'électrode se caractérisant en ce qu'il comprend une étape de formation de première couche consistant à former une première couche sur une feuille de collecteur par revêtement intermittent à une épaisseur comprise entre 40 et 300 µm inclus, ainsi qu'une étape de formation de deuxième couche consistant à former une deuxième couche sur une zone où la première couche a été formée sur la feuille de collecteur et sur une zone exposée où la première couche n'a pas été formée et où la feuille de collecteur est découverte. Dans l'étape de formation de deuxième couche, un espace entre la feuille de collecteur et une unité de revêtement du dispositif de revêtement est élargi à 40 µm ou plus, en fonction des informations de position de première couche entre le moment du revêtement de la zone exposée et le moment du revêtement de la première couche.
(JA)この電極製造方法は、集電箔に、第1の層を、厚み40μm以上300μm以下で間欠塗工形成する第1の層形成ステップと、前記集電箔上の前記第1の層が形成された領域と、第1の層が形成されずに前記集電箔が露出した露出領域との両方にわたって第2の層を形成する第2の層形成ステップとを備え、前記第2の層形成ステップでは、前記第1の層の位置情報に基づき、前記露出領域上に塗工するときと前記第1の層上に塗工するときとで、塗工装置の塗工部と前記集電箔との間のギャップを40μm以上広げることを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)