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1. (WO2017169493) PATTERNING METHOD AND PATTERNING DEVICE
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Pub. No.: WO/2017/169493 International Application No.: PCT/JP2017/008163
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 01.03.2017
IPC:
B29C 67/00 (2017.01) ,B33Y 10/00 (2015.01) ,B33Y 30/00 (2015.01)
Applicants: NAGASE CHEMTEX CORPORATION[JP/JP]; 1-17, Shinmachi 1-chome, Nishi-ku, Osaka-shi, Osaka 5508668, JP
Inventors: WATANABE Koji; JP
Agent: KAWASAKI Shinichi; JP
Priority Data:
2016-07323031.03.2016JP
Title (EN) PATTERNING METHOD AND PATTERNING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF ET DISPOSITIF DE FORMATION DE MOTIF
(JA) パターニング方法およびパターニング装置
Abstract: front page image
(EN) Provided is a patterning method whereby a photocuring pattern can be formed easily and in a short time without the need to peel the photocuring pattern (cured material) from a release layer. The patterning method is provided with: (i) a step for supplying a liquid release material having a specific gravity d1 and a liquid patterning material which has a specific gravity d2 smaller than the specific gravity d1 and phase-separates from the release material to a shaping tray provided with a bottom part having a photoirradiation surface, providing a first liquid layer of the release material in contact with the bottom part, forming a second liquid layer of the patterning material on the first liquid layer and in contact with the first liquid layer, and forming a liquid film of the patterning material in the vicinity of the interface of the second liquid layer with the first liquid layer; and (ii) a step for radiating light to the liquid film via the first liquid layer to photocure the liquid film and form a pattern.
(FR) La présente invention décrit un procédé de formation de motif grâce auquel un motif photodurci peut être facilement formé sur une courte durée sans nécessiter de décollement du motif photodurci (matériau durci) d’une couche de décollement. Le procédé de formation de motif est prévu avec : (i) une étape d’alimentation d’un matériau de distribution de liquide présentant une densité relative d1 et un matériau liquide de formation de motif qui présente une densité relative d2 inférieure à la densité relative d1 et qui subit une séparation de phase du matériau de décollement vers un plateau de mise en forme prévu avec une partie inférieure présentant une surface de photoirradiation, fournissant une première couche de liquide du matériau de décollement en contact avec la partie inférieure, formant une seconde couche de liquide du matériau de formation de motif sur la première couche de liquide et en contact avec la première couche de liquide, et la formation d’un film liquide du matériau de formation de motif à proximité de l’interface de la seconde couche de liquide avec la première couche de liquide ; et (ii) une étape d’irradiation de lumière vers le film liquide par l'intermédiaire de la première couche de liquide pour photodurcir le film liquide et former un motif.
(JA) 光硬化パターン(硬化物)を離型層から剥離する必要がなく、簡便かつ短時間で光硬化パターンを形成することができるパターニング方法を提供する。パターニング方法は、(i)光照射面を有する底部を備える造形用トレイに、比重d1を有する液状の離型材料、および比重d1より小さい比重d2を有し、かつ離型材料と相分離する液状のパターニング材料を供給して、底部に接触する離型材料の第1液層を設け、第1液層上にこれと接触するパターニング材料の第2液層を形成して、第2液層の第1液層との界面近傍にパターニング材料の液膜を形成する工程と、(ii)第1液層を介して液膜に対して光を照射して、液膜を光硬化させ、パターンを形成する工程と、を備える。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)