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1. (WO2017169435) SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS
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Pub. No.:    WO/2017/169435    International Application No.:    PCT/JP2017/007462
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 27.02.2017
IPC:
H01L 21/304 (2006.01)
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; 1-1, Tenjinkita-machi, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventors: ABE, Hiroshi; (JP).
HAYASHI, Toyohide; (JP).
KOBAYASHI, Kenji; (JP)
Agent: AI ASSOCIATION OF PATENT AND TRADEMARK ATTORNEYS; Sun Mullion NBF Tower, 21st Floor, 6-12, Minamihommachi 2-chome, Chuo-ku, Osaka-shi, Osaka 5410054 (JP)
Priority Data:
2016-067177 30.03.2016 JP
Title (EN) SUBSTRATE TREATMENT APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置
Abstract: front page image
(EN)A substrate treatment apparatus of the present invention includes: a spin base, on which a chuck member that holds the peripheral end of a substrate is disposed; a motor for rotating the spin base; a heater unit positioned between the substrate held by the chuck member, and the upper surface of the spin base; a treatment liquid supply unit that supplies a treatment liquid to the surface of the substrate held by the chuck member; and a microwave generation unit that generates microwaves toward the lower surface of the substrate from the heater unit. The microwave generation unit may include: a microwave generation member including a waveguide disposed in the heater unit; a microwave oscillator that is provided outside of the heater unit; and a coaxial cable that connects the waveguide and the microwave oscillator to each other.
(FR)La présente invention concerne un appareil de traitement de substrat qui comprend : une base rotative, sur laquelle est disposé un élément de mandrin qui maintient l'extrémité périphérique d'un substrat ; un moteur pour faire tourner la base rotative ; une unité de chauffage positionnée entre le substrat maintenu par l'élément de mandrin et la surface supérieure de la base rotative ; une unité d'alimentation en liquide de traitement qui amène un liquide de traitement sur la surface du substrat maintenu par l'élément de mandrin ; et une unité de génération de micro-ondes qui génère des micro-ondes dirigées vers la surface inférieure du substrat à partir de l'unité de chauffage. L'unité de génération de micro-ondes peut comprendre : un élément de génération de micro-ondes comprenant un guide d'ondes disposé dans l'unité de chauffage ; un oscillateur hyperfréquence qui est disposé à l'extérieur de l'unité de chauffage ; et un câble coaxial qui connecte l'un à l'autre le guide d'ondes et l'oscillateur hyperfréquence.
(JA)基板処理装置は、基板の周縁を保持するチャック部材が設置されたスピンベースと、前記スピンベースを回転させるモータと、前記チャック部材に保持された基板と前記スピンベースの上面との間に位置するヒータユニットと、前記チャック部材に保持された基板の表面に向けて処理液を供給する処理液供給ユニットと、前記ヒータユニットから前記基板の下面に向けてマイクロ波を発生させるマイクロ波発生ユニットとを含む。前記マイクロ波発生ユニットは、前記ヒータユニットに設置された導波管を含むマイクロ波発生部材と、前記ヒータユニットの外部に設けられたマイクロ波発振器と、前記導波管と前記マイクロ波発振器とを接続する同軸ケーブルとを含んでいてもよい。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)