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1. (WO2017169211) RESTRAINING MATERIAL, AND PROCESSING DEVICE AND CONVEYANCE DEVICE USING SAME
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Pub. No.: WO/2017/169211 International Application No.: PCT/JP2017/005363
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 14.02.2017
IPC:
B21D 37/20 (2006.01) ,B21D 22/20 (2006.01) ,B21D 28/24 (2006.01) ,B21D 28/34 (2006.01)
Applicants: FLEXI-SCRAM CO., LTD.[JP/JP]; 2266-22-111, Anagahora, Shimoshidami, Moriyama-ku, Nagoya-shi, Aichi 4630003, JP
Inventors: DONG Yuan; JP
Agent: COSMOS PATENT OFFICE; Annex 2nd Floor, Nagoya Center Building, 2-22, Nishiki 2-chome, Naka-ku, Nagoya-shi, Aichi 4600003, JP
Priority Data:
2016-06685229.03.2016JP
Title (EN) RESTRAINING MATERIAL, AND PROCESSING DEVICE AND CONVEYANCE DEVICE USING SAME
(FR) MATÉRIAU DE RETENUE, ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT ET DISPOSITIF DE TRANSPORT L'UTILISANT
(JA) 拘束材およびそれを用いた加工装置,搬送装置
Abstract: front page image
(EN) A restraining material (10) having a frictional surface for restraining an object by being pressed against the object, and exerting a frictional force on the object, the frictional surface being a surface at which a base material of the restraining member is in direct contact with the object, and being configured as a pattern surface which is divided into island parts (12) by a recess (4) and in which the island parts are periodically arranged, the depth of the recess with respect to the frictional surface being in the range of 15 to 50 µm, a pattern index which is a value obtained by dividing an arrangement pitch (P1, P2) of the island parts in a periodic arrangement direction of the island parts in the pattern surface by the maximum diameter D of the island parts in the periodic arrangement direction is in the range of 1.0 to 100, and the maximum diameter of the island parts in the periodic arrangement direction is in the range of 0.1 to 2 mm.
(FR) La présente invention concerne un matériau de retenue (10) ayant une surface de frottement destiné à retenir un objet en étant pressé contre ledit objet et en exerçant une force de frottement sur l'objet. La surface de frottement est une surface au niveau de laquelle un matériau de base de l'élément de retenue est en contact direct avec l'objet, et elle se présente sous la forme d'une surface à motif qui est divisée en îlots (12) par un évidement (4), les îlots étant agencés périodiquement, la profondeur de l'évidement par rapport à la surface de frottement étant dans la plage de 15 à 50 µm, un indice de motif, qui est une valeur obtenue en divisant un pas d'agencement (P1, P2) des îlots dans une direction d'agencement périodique des îlots dans la surface à motif par le diamètre maximal D des îlots dans la direction d'agencement périodique, étant dans la plage de 1,0 à 100, et le diamètre maximal des îlots dans la direction d'agencement périodique étant dans la plage de 0,1 à 2 mm.
(JA) 対象物に対して圧接されることで対象物を拘束して対象物に摩擦力を及ぼす摩擦面を有する拘束材(10)であって,摩擦面は,拘束材の基材が直接に対象物に接する面であり,凹部(4)によって島状部(12)に区切られ,周期的に島状部が配置されたパターン面とされており,凹部の深さは摩擦面に対して15~50μmの範囲内であり,パターン面における島状部の周期配置方向として,その方向における島状部の配置ピッチ(P1,P2)をその方向に対する島状部の最大径Dで割った値であるパターン指数が1.0~100の範囲内にあるとともに,その方向に対する島状部の最大径が0.1~2mmの範囲内である方向が存在するものである。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)