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1. (WO2017169018) SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
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Pub. No.:    WO/2017/169018    International Application No.:    PCT/JP2017/002402
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 24.01.2017
IPC:
H01L 21/304 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Applicants: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. [JP/JP]; Tenjinkita-machi 1-1, Teranouchi-agaru 4-chome, Horikawa-dori, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 6028585 (JP)
Inventors: NAKAI, Hitoshi; (JP).
KANEMATSU, Yasunori; (JP).
ANDO, Koji; (JP).
IWATA, Tomomi; (JP)
Agent: MATSUSAKA, Masahiro; (JP).
TANAKA, Tsutomu; (JP).
IDA, Masamichi; (JP)
Priority Data:
2016-065126 29.03.2016 JP
Title (EN) SUBSTRATE PROCESSING METHOD AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理方法および基板処理装置
Abstract: front page image
(EN)According to the present invention, pure water, a liquid mixture, and an organic solvent are sequentially supplied onto a top surface (91) while a substrate (9) rotates at a relatively high rotation speed so that the liquid splashing from the top surface (91) is received by the inner surface of an outside cup part (25) during an outside cup facing state in which the upper end of an inside cup part (24) is disposed lower than the upper end of the outside cup part (25). Next, a filler solution is supplied onto the top surface (91) and the top surface (91) is covered with the filler solution during an inside cup facing state in which the inner surface of the inside cup part (24) is disposed around the substrate (9). Consequently, mixing of the filler solution and the pure water inside the inside cup part (24) is prevented and gelling and the like of the filler solution is also prevented. By supplying the liquid mixture in which the organic solvent and the pure water are mixed, the collapse of pattern elements formed on the top surface (91) is suppressed.
(FR)Selon l'invention, de l'eau pure, un mélange liquide et un solvant organique sont acheminés successivement sur une surface supérieure (91) tandis qu'un substrat (9) tourne à une vitesse de rotation relativement élevée, de sorte que le liquide éclaboussé de la surface supérieure (91) soit reçu par la surface interne d'une partie coupelle extérieure (25) dant un état faisant face à la coupelle extérieure, dans lequel l'extrémité supérieure d'une partie coupelle intérieure (24) est située plus bas que l'extrémité supérieure de la partie coupelle extérieure (25). Ensuite, une solution de remplissage est acheminée sur la surface supérieure (91) et cette dernière (91) est recouverte de la solution de remplissage dant un état faisant face à la coupelle intérieure, dans lequel la surface interne de la partie coupelle intérieure (24) est disposée autour du substrat (9). Ainsi, le mélange de la solution de remplissage et de l'eau pure à l'intérieur de la partie coupelle intérieure (24) est empêché, de même que la gélification de la solution de remplissage et analogue. L'acheminement du mélange liquide dans lequel sont mélangés le solvant organique et l'eau pure permet de supprimer l'effondrement d'éléments de motif formés sur la surface supérieure (91).
(JA)内側カップ部(24)の上端を外側カップ部(25)の上端よりも下方に配置した外側カップ対向状態において、上面(91)から飛散する液が外側カップ部(25)の内側面により受けられるように基板(9)を比較的高い回転数にて回転しつつ、上面(91)上に純水、混合液および有機溶剤が順次供給される。続いて、内側カップ部(24)の内側面が基板(9)の周囲に配置された内側カップ対向状態において、充填材溶液が上面(91)に供給され、上面(91)上に充填材溶液が充填される。これにより、内側カップ部(24)内にて充填材溶液と純水とが混ざることが防止され、充填材溶液のゲル化等が防止される。有機溶剤と純水とを混合した混合液の供給により、上面(91)に形成されたパターン要素の倒壊が抑制される。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)