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1. (WO2017168055) STABILE MICROMECHANICAL DEVICES
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Pub. No.:    WO/2017/168055    International Application No.:    PCT/FI2017/050230
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 31.03.2017
IPC:
B81B 3/00 (2006.01), B81C 1/00 (2006.01)
Applicants: TEKNOLOGIAN TUTKIMUSKESKUS VTT OY [FI/FI]; Vuorimiehentie 3 02150 Espoo (FI)
Inventors: JAAKKOLA, Antti; (FI).
PENSALA, Tuomas; (FI).
PRUNNILA, Mika; (FI).
PEKKO, Panu; (FI).
KIIHAMÄKI, Jyrki; (FI).
OJA, Aarne; (FI)
Agent: KOLSTER OY AB; (Salmisaarenaukio 1) P.O.Box 204 00181 Helsinki (FI)
Priority Data:
20165279 01.04.2016 FI
Title (EN) STABILE MICROMECHANICAL DEVICES
(FR) DISPOSITIFS MICROMÉCANIQUES STABLES
Abstract: front page image
(EN)The invention provides a micromechanical device comprising a support structure and a deflecting element connected to the support structure, wherein the deflecting element comprises at least one deformable member adapted to deform extensionally, flexurally or torsionally with respect to a deformation axis for allowing deflection of the deflecting element with respect to the support structure. Further, there are means for statically deflecting the deflecting element or detecting the magnitude of static deflection of the deflecting element. According to the invention, the deformable member is made of silicon doped with an n-type doping agent to a doping concentration of at least 1.1*1020cm-3. The invention allows for manufacturing micromechanical devices whose mechanical operation is not affected by prevailing temperature conditions.
(FR)L'invention concerne un dispositif micromécanique comprenant une structure support et un élément de déviation relié à la structure support. L'élément de déviation comprend au moins un élément déformable adapté pour se déformer en extension, en flexion ou en torsion par rapport à un axe de déformation afin de permettre une déviation de l'élément de déviation par rapport à la structure support. De plus, il existe des moyens destinés à effectuer une déviation statique de l'élément de déviation ou à détecter l'amplitude de la déviation statique de l'élément de déviation. Selon l'invention, l'élément déformable est constitué de silicium dopé avec un agent de dopage de type N à une concentration de dopage d'au moins 1,1*1020cm-3. L'invention permet de fabriquer des dispositifs micromécaniques dont le fonctionnement mécanique n'est pas affecté par les conditions de température dominantes.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)