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1. (WO2017167573) METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING BOARDS FOR MICROELECTRONICS OR OPTICS BY LASER DOPPLER EFFECT
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Pub. No.: WO/2017/167573 International Application No.: PCT/EP2017/055967
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 14.03.2017
IPC:
G01N 21/95 (2006.01)
Applicants: UNITY SEMICONDUCTOR[FR/FR]; 611 rue Aristide Bergès 38330 Montbonnot-Saint-Martin, FR
Inventors: GASTALDO, Philippe; FR
DURAND DE GEVIGNEY, Mayeul; FR
COMBIER, Tristan; FR
Agent: PONTET ALLANO & ASSOCIES; Parc Les Algorithmes, Bâtiment PLATON CS 70003 Saint-Aubin 91192 Gif Sur Yvette cedex, FR
Priority Data:
165283531.03.2016FR
Title (EN) METHOD AND SYSTEM FOR INSPECTING BOARDS FOR MICROELECTRONICS OR OPTICS BY LASER DOPPLER EFFECT
(FR) PROCEDE ET SYSTEME D'INSPECTION PAR EFFET DOPPLER LASER DE PLAQUETTES POUR LA MICROELECTRONIQUE OU L'OPTIQUE
Abstract: front page image
(EN) The invention relates to a method for inspecting a board (2) for electronics, optics or optoelectronics, which comprises: rotating the board (2) about an axis of symmetry (X) perpendicular to a main surface (S) of said board; emitting, from a light source (20) coupled with an interferometric device (30), two incident light beams so as to form, at the intersection between the two beams, a measurement space (V) containing interference fringes; collecting at least one portion of the light diffused by said region of the board; acquiring the collected light and emitting an electric signal representing the variation of the light intensity of the light collected over time; and detecting, in said signal, a frequency component in said collected light, said frequency being the time signature of the occurrence of a fault in the measurement space.
(FR) L'invention concerne un procédé d'inspection d'une plaquette (2) pour l'électronique, l'optique ou l'optoélectronique, comprenant : la mise en rotation de la plaquette (2) autour d'un axe de symétrie (X) perpendiculaire à une surface principale (S) de ladite plaquette, l'émission, à partir d'une source lumineuse (20) couplée à un dispositif interférométrique (30), de deux faisceaux lumineux incidents de sorte à former, à l'intersection entre les deux faisceaux, un volume de mesure (V) contenant des franges d'interférences, la collecte d'au moins une partie de la lumière diffusée par ladite région de la plaquette, l'acquisition de la lumière collectée et l'émission d'un signal électrique représentant la variation de l'intensité lumineuse de la lumière collectée en fonction du temps, la détection, dans ledit signal, d'une composante fréquentielle dans ladite lumière collectée, ladite fréquence étant la signature temporelle du passage d'un défaut dans le volume de mesure.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: French (FR)
Filing Language: French (FR)