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1. (WO2017167451) ADAPTIVE PENCIL BEAM SCANNING
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Pub. No.: WO/2017/167451 International Application No.: PCT/EP2017/000394
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 30.03.2017
IPC:
A61N 5/10 (2006.01) ,G21K 1/093 (2006.01) ,G21K 1/10 (2006.01) ,G21K 5/04 (2006.01)
A HUMAN NECESSITIES
61
MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
N
ELECTROTHERAPY; MAGNETOTHERAPY; RADIATION THERAPY; ULTRASOUND THERAPY
5
Radiation therapy
10
X-ray therapy; Gamma-ray therapy; Particle-irradiation therapy
G PHYSICS
21
NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
K
TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
1
Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
08
Deviation, concentration, or focusing of the beam by electric or magnetic means
093
by magnetic means
G PHYSICS
21
NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
K
TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
1
Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
10
Scattering devices; Absorbing devices
G PHYSICS
21
NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
K
TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
5
Irradiation devices
04
with beam-forming means
Applicants:
VARIAN MEDICAL SYSTEMS PARTICLE THERAPY GMBH [DE/DE]; Mottmannstraße 2 53842 Troisdorf, DE
Inventors:
WULFF, Jörg; DE
Agent:
KIRCHNER, Veit; Lorenz - Seidler - Gossel Rechtsanwälte - Patentanwälte Partnerschaft mbB Widenmayerstraße 23 80538 München, DE
Priority Data:
15/087,29231.03.2016US
Title (EN) ADAPTIVE PENCIL BEAM SCANNING
(FR) BALAYAGE DE FAISCEAU ÉTROIT ADAPTATIF
Abstract:
(EN) Embodiments of the present invention disclose methods and systems for producing an adaptive pencil beam having an adjustable lateral beam size and Bragg-peak width. According to one disclosed embodiment, an apparatus for producing an adaptive pencil beam is disclosed. The apparatus includes a set of momentum band expanders configured to widen a momentum spread of a pencil beam, where a momentum band expander is selected from the set of momentum band expanders to receive the pencil beam, and a slit at dispersive focus of two dipole magnets to adjust a width of a Bragg- peak of the pencil beam. According to another disclosed embodiment, a method for producing an adaptive pencil beam with an adjustable lateral beam is disclosed. The method includes selecting a scatter foil, or setting of a defocusing/ focusing magnet, and adjusting a lateral size of the pencil beam.
(FR) Des modes de réalisation de la présente invention concernent des procédés et des systèmes permettant de produire un faisceau étroit adaptatif ayant une taille de faisceau latéral et une largeur de pic de Bragg réglables. Selon un mode de réalisation, l'invention décrit un appareil permettant de produire un faisceau étroit adaptatif. L'appareil comprend un ensemble de dispositifs d'expansion de bande de mouvement conçus pour élargir une étendue de mouvement d'un faisceau étroit, un dispositif d'expansion de bande de mouvement étant sélectionné à partir de l'ensemble de dispositifs d'expansion de bande de mouvement pour recevoir le faisceau étroit, et une fente au niveau de la focalisation dispersive de deux aimants dipôles pour régler une largeur d'un pic de Bragg du faisceau étroit. Selon un autre mode de réalisation, l'invention concerne un procédé de production d'un faisceau étroit adaptatif à faisceau latéral réglable. Le procédé comprend la sélection d'une feuille de diffusion, ou le réglage d'un aimant de défocalisation/focalisation, et le réglage d'une dimension latérale du faisceau étroit.
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)