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1. (WO2017167258) PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD
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Pub. No.:    WO/2017/167258    International Application No.:    PCT/CN2017/078934
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 31.03.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01), G03F 9/00 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Applicants: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD. [CN/CN]; 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203 (CN)
Inventors: CHEN, Yuefei; (CN)
Agent: SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335 (CN)
Priority Data:
201610200713.1 31.03.2016 CN
Title (EN) PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'EXPOSITION PAR PROJECTION
(ZH) 一种投影曝光装置及方法
Abstract: front page image
(EN)Disclosed is a projection exposure apparatus; a focal plane measurement system (8) and an alignment measurement system (9) are arranged between a mask platform (3) and a working platform (4), the alignment measurement system (9) having a focal adjustment function; after the surface change of a substrate (5) is measured by means of the focal plane measurement system (8), the alignment measurement system (9) implements focal adjustment on the basis of the measurement data of the focal plane measurement system (8); after focal adjustment is completed, the coordinates of the points on the substrate (5) displayed in the alignment measurement system (8) are the coordinates of the points after the surface change of the substrate (5); by calculating the changes to the coordinates of the points, the relative positional relationship of a mask plate (2) and the substrate (5) having undergone the surface change can be obtained, and compensation can be implemented by means of moving the working platform (4). Thus, even if the focal plane measurements of the alignment measurement system (9) and the focal plane measurement system (8) are different, the error can be compensated by means of calculation and focal adjustment. Also disclosed is an exposure method for a projection apparatus.
(FR)L'invention concerne un appareil d'exposition par projection ; un système de mesure de plan focal (8) et un système de mesure d'alignement (9) sont disposés entre une plate-forme de masque (3) et une plate-forme de travail (4), le système de mesure d'alignement (9) ayant une fonction d'ajustement focal ; une fois que le changement de surface d'un substrat (5) a été mesuré au moyen du système de mesure de plan focal (8), le système de mesure d'alignement (9) met en œuvre un ajustement focal sur la base des données de mesure du système de mesure de plan focal (8) ; une fois que l'ajustement focal a été terminé, les coordonnées des points sur le substrat (5) affichés dans le système de mesure d'alignement (8) sont les coordonnées des points après le changement de surface du substrat (5) ; en calculant les changements de coordonnées des points, la relation de position relative d'une plaque de masque (2) et du substrat (5) ayant subi le changement de surface peut être obtenue, et une compensation peut être mise en œuvre en déplaçant la plate-forme de travail (4). Ainsi, même si les mesures de plan focal du système de mesure d'alignement (9) et du système de mesure de plan focal (8) sont différentes, l'erreur peut être compensée par un calcul et un ajustement focal. L'invention concerne également un procédé d'exposition pour un appareil de projection.
(ZH)公开了一种投影曝光装置,其中,在掩膜台(3)和工件台(4)之间设置有焦面测量系统(8)和对准测量系统(9),对准测量系统(9)具有调焦功能,通过焦面测量系统(8)测量基板(5)面型的变化后,对准测量系统(9)根据焦面测量系统(8)测量的数据进行调焦,在调焦完成后,对准测量系统(9)中显示的基板(5)上各点的坐标即为各点在基板(5)面型发生变化后的坐标,计算各点的坐标变化可得到掩膜版(2)与面型发生变化的基板(5)的相对位置关系,即可通过移动工件台(4)进行补偿。这样即使对准测量系统(9)和焦面测量系统(8)的测量焦面不相同,也可以通过计算、调焦弥补该误差。还公开了一种投影装置的曝光方法。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)