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1. (WO2017167211) LIGHT INTENSITY MODULATION METHOD
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Pub. No.: WO/2017/167211 International Application No.: PCT/CN2017/078717
Publication Date: 05.10.2017 International Filing Date: 30.03.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
Applicants: SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD.[CN/CN]; 1525 Zhangdong Road, Zhangjiang High-Tech Park Shanghai 201203, CN
Inventors: MA, Pengchuan; CN
TIAN, Yiqiang; CN
Agent: SHANGHAI SAVVY INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY; Room 341, Building 1 789 West Tianshan Road, Changning District Shanghai 200335, CN
Priority Data:
201610200470.131.03.2016CN
Title (EN) LIGHT INTENSITY MODULATION METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE MODULATION D'INTENSITÉ LUMINEUSE
(ZH) 一种光强调制方法
Abstract: front page image
(EN) A light intensity modulation method, implemented by using a mask (101), comprises: step 1, according to a defocused spot function of an illumination system, existing light intensity distribution of an illumination view field (102) and target light intensity distribution, calculating transmittance distribution of the needed mask (101) used for modulating the existing light intensity distribution to the target light intensity distribution; step 2, dividing the mask (101) into grids according to precision requirements of the target light intensity distribution, and determining distribution of light-proof spots in each grid according to transmittance distribution of the mask (101) and the transmittance distribution precision requirements; and step 3, preparing the mask (101) according to the distribution of light-proof spots; and then arranging the mask (101) in the illumination system. Advantages of high modulation precision, large modulated view field, great light-intensity range, and great range of wavelength adaption, mature manufacturing technology and the like can are obtained.
(FR) L'invention concerne un procédé de modulation d'intensité lumineuse, mis en oeuvre à l'aide d'un masque (101), comprenant : une étape 1 consistant, conformément à une fonction de point défocalisé d'un système d'éclairage, à déterminer une distribution d'intensité lumineuse existante d'un champ de vue d'éclairage (102) et une distribution d'intensité lumineuse cible, en calculant une distribution de transmittance du masque requis (101) utilisé pour moduler la distribution d'intensité lumineuse existante conformément à la distribution d'intensité lumineuse cible; une étape 2, consistant à diviser le masque (101) en grilles conformément aux exigences de précision de la distribution d'intensité lumineuse cible, et à déterminer la distribution de points opaques à la lumière dans chaque grille en fonction de la distribution de transmittance du masque (101) et des exigences de précision de distribution de transmittance ; et une étape 3, consistant à préparer le masque (101) selon la distribution de points opaques à la lumière ; puis à disposer le masque (101) dans le système d'éclairage. L'invention offre les avantages d'une grande précision de modulation, d'un grand champ de vue modulé, d'une grande plage d'intensité lumineuse et d'une grande plage d'adaptation de longueur d'onde, et permet d'obtenir une technologie de fabrication ou autre évoluée.
(ZH) 一种光强调制方法,利用掩模版(101)来实现,包括:步骤1:根据照明系统的弥散斑函数、照明视场(102)的既有光强分布及目标光强分布,计算得到用于将所述既有光强分布调制为所述目标光强分布所需的掩模版(101)的透过率分布;步骤2:根据所述目标光强分布的精度需求,对掩模版(101)进行网格划分,根据所述掩模版(101)的透过率分布和透过率分布精度需求,确定每个网格内不透光点的分布;步骤3:根据所述不透光点的分布,制作加工掩模版(101);然后,将所述掩模版(101)设置在照明系统中。可获得调制精度高、调制视场面积大、调制光强范围大、适用波长范围大及制造工艺成熟等优点。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)