Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2017157506) COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING THE SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2017/157506 International Application No.: PCT/EP2017/000267
Publication Date: 21.09.2017 International Filing Date: 27.02.2017
IPC:
G03F 7/40 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,G03F 7/031 (2006.01) ,G03F 7/033 (2006.01)
[IPC code unknown for G03F 7/40][IPC code unknown for G03F 7/04][IPC code unknown for G03F 7/031][IPC code unknown for G03F 7/033]
Applicants:
AZ ELECTRONIC MATERIALS (LUXEMBOURG) S.À R.L. [LU/LU]; 46 Place Guillaume II 1648 Luxembourg, LU
Inventors:
MIYAMOTO, Yoshihiro; JP
KATAYAMA, Tomohide; JP
SAO, Takayuki; JP
Agent:
B2B PATENTS; Merck Patent GmbH 64271 Darmstadt, DE
Priority Data:
2016-05154515.03.2016JP
Title (EN) COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN USING THE SAME
(FR) COMPOSITION POUR FORMER UN MOTIF FIN ET PROCÉDÉ DE FORMATION DE MOTIF FIN L'UTILISANT
Abstract:
(EN) [Problem] To provide a composition for forming a fine pattern having a good pattern shape even after being applied to a thick-film resist, a high size reduction rate and less defects, as well as a method for forming a fine pattern using the same. [Means for Solution] A composition comprising vinyl resin, an amine compound having a specific cage-type three-dimensional structure and a solvent, and a method for forming a fine pattern using the same.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir une composition pour former un motif fin ayant une bonne forme de motif même après avoir été appliquée à une réserve à film épais, un taux de réduction de taille élevé et moins de défauts, ainsi qu'un procédé de formation de motif fin l'utilisant. La solution selon l'invention porte sur une composition comprenant une résine vinylique, un composé d'amine ayant une structure tridimensionnelle de type cage spécifique, et un solvant, et un procédé de formation de motif fin l'utilisant.
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)