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1. (WO2017156886) ARRAY SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, ARRAY SUBSTRATE, GREY SCALE MASK PLATE, AND DISPLAY APPARATUS
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Pub. No.: WO/2017/156886 International Application No.: PCT/CN2016/084041
Publication Date: 21.09.2017 International Filing Date: 31.05.2016
IPC:
H01L 27/12 (2006.01)
H ELECTRICITY
01
BASIC ELECTRIC ELEMENTS
L
SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
27
Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
02
including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having at least one potential-jump barrier or surface barrier; including integrated passive circuit elements with at least one potential-jump barrier or surface barrier
12
the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
Applicants:
京东方科技集团股份有限公司 BOE TECHNOLOGY GROUP CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 朝阳区酒仙桥路10号 No.10 Jiuxianqiao Road, Chaoyang District Beijing 100015, CN
北京京东方光电科技有限公司 BEIJING BOE OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国北京市 经济技术开发区西环中路8号 No.8, Xihuanzhonglu, BDA Beijing 100176, CN
Inventors:
董宜萍 DONG, Yiping; CN
张磊 ZHANG, Lei; CN
高天佑 GAO, Tianyou; CN
Agent:
中国专利代理(香港)有限公司 CHINA PATENT AGENT (H.K.) LTD.; 中国香港特别行政区 湾仔港湾道23号鹰君中心22号楼 22/F, Great Eagle Centre 23 Harbour Road, Wanchai Hong Kong, CN
Priority Data:
201610145997.914.03.2016CN
Title (EN) ARRAY SUBSTRATE MANUFACTURING METHOD, ARRAY SUBSTRATE, GREY SCALE MASK PLATE, AND DISPLAY APPARATUS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE SUBSTRAT DE RÉSEAU, SUBSTRAT DE RÉSEAU, PLAQUE DE MASQUE D'ÉCHELLE DE GRIS ET APPAREIL D'AFFICHAGE
(ZH) 阵列基板的制造方法、阵列基板、灰度掩膜板和显示装置
Abstract:
(EN) An array substrate manufacturing method, an array substrate, a grey scale mask plate, and a display apparatus. The method comprises: forming in sequence on a substrate a transparent electrically conductive layer and a metal layer (101); on the substrate having a transparent electrically conductive layer and a metal layer, forming a photoetching adhesive pattern; removing the transparent electrically conductive layer and the metal layer corresponding to a non-photoetching adhesive region; removing the photoetching adhesive of a second photoetching adhesive region (104); removing the metal layer corresponding to the second photoetching adhesive region, to expose pixel electrodes; and removing the photoetching adhesive of a first photoetching adhesive region, to expose a first electrode, a second electrode, and a first data line (106). By forming a first data line and a second data line by means of the same photoetching adhesive pattern, the present method enables the first data line to exactly overlap the second data line. The problem in the prior art of the second data line possibly failing as a result of human or mechanical error is solved, achieving the effect of the first data line and the second data line exactly overlapping.
(FR) Procédé de fabrication de substrat de réseau, substrat de réseau, plaque de masque d'échelle de gris et appareil d'affichage. Le procédé consiste: à former en séquence, sur un substrat, une couche électroconductrice transparente et une couche métallique (101); à former un motif d'adhésif de photogravure sur le substrat présentant une couche électroconductrice transparente et une couche métallique; à retirer la couche électroconductrice transparente et la couche métallique correspondant à une zone d'adhésif de non photogravure; à retirer l'adhésif de photogravure d'une seconde zone d'adhésif de photogravure (104); à retirer la couche métallique correspondant à la seconde zone d'adhésif de photogravure afin d'exposer des électrodes de pixel; et à retirer l'adhésif de photogravure d'une première zone d'adhésif de photogravure afin d'exposer une première électrode, une seconde électrode et une première ligne de données (106). En formant une première ligne de données et une seconde ligne de données au moyen du même motif d'adhésif de photogravure, le présent procédé permet à la première ligne de données de chevaucher avec précision la seconde ligne de données. Le problème de l'état de la technique selon lequel la défaillance éventuelle de la seconde ligne de données résulte d'une erreur humaine ou mécanique est résolu, et cela a pour effet que la première ligne de données et la seconde ligne de données se chevauchent avec précision.
(ZH) 一种阵列基板的制造方法、阵列基板、灰度掩膜板和显示装置。该方法包括:在衬底基板上依次形成透明导电层和金属层(101);在形成有透明导电层和金属层的衬底基板上形成光刻胶图案;去除无光刻胶区对应的透明导电层和金属层;去除第二光刻胶区的光刻胶(104);去除第二光刻胶区对应的金属层,露出像素电极;以及去除第一光刻胶区的光刻胶,露出第一电极、第二电极和第一数据线(106)。该方法通过同一光刻胶图案来形成第一数据线及第二数据线,使第一数据线能够正好叠在第二数据线上。解决了相关技术中可能由于人工误差和机械误差等因素而使第二数据线失效的问题,从而达到第一数据线与第二数据线正好重叠在一起的效果。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)