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1. (WO2017155969) PAD STRUCTURE AND FABRICATION METHODS
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Pub. No.: WO/2017/155969 International Application No.: PCT/US2017/021119
Publication Date: 14.09.2017 International Filing Date: 07.03.2017
IPC:
H01L 21/306 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01) ,H01L 21/321 (2006.01) ,H01L 21/02 (2006.01)
[IPC code unknown for H01L 21/306][IPC code unknown for H01L 21/304][IPC code unknown for H01L 21/321][IPC code unknown for H01L 21/02]
Applicants:
APPLIED MATERIALS, INC. [US/US]; 3050 Bowers Avenue Santa Clara, California 95054, US
Inventors:
NG, Hou T.; US
PATIBANDLA, Nag B.; US
BAJAJ, Rajeev; US
REDFIELD, Daniel; US
CHOCKALINGAM, Ashwin; US
YAMAMURA, Mayu; US
CORNEJO, Mario; US
Agent:
PATTERSON, B. Todd; US
TACKETT, Keith M.; US
Priority Data:
62/305,58209.03.2016US
Title (EN) PAD STRUCTURE AND FABRICATION METHODS
(FR) STRUCTURE DE TAMPON ET PROCÉDÉS DE FABRICATION
Abstract:
(EN) A method and apparatus for manufacturing polishing articles used in polishing processes are provided. In one implementation, a method of forming a polishing pad is provided. The method comprises depositing an uncured first layer of a pad forming photopolymer on a substrate. The method further comprises positioning a first optical mask over the first layer of the uncured pad forming photopolymer. The first optical mask includes a patterned sheet of material having at least one aperture. The method further comprises exposing the uncured first layer of the pad forming photopolymer to electromagnetic radiation to selectively polymerize exposed portions of the uncured first layer of the pad forming photopolymer to form pad-supporting structures within the first layer of pad forming photopolymer.
(FR) L’invention concerne un procédé et un appareil pour fabriquer des articles de polissage utilisés dans des procédés de polissage. Un mode de réalisation concerne un procédé de formation d’un tampon à polir. Le procédé comprend le dépôt d’une première couche non durcie d’un photopolymère de formation de tampon sur un substrat. Le procédé comprend également le positionnement d’un premier masque optique sur la première couche du photopolymère de formation de tampon non durci. Le premier masque optique comprend une feuille de matériau à motifs présentant au moins une ouverture. Le procédé comprend également l’exposition de la première couche non durcie du photopolymère de formation de tampon à un rayonnement électromagnétique pour polymériser sélectivement des parties exposées de la première couche non durcie du photopolymère de formation de tampon pour former des structures de support de tampon à l’intérieur de la première couche de photopolymère de formation de tampon.
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)