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1. (WO2017154528) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS
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Pub. No.: WO/2017/154528 International Application No.: PCT/JP2017/005996
Publication Date: 14.09.2017 International Filing Date: 17.02.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01) ,H05G 2/00 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
H ELECTRICITY
05
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
G
X-RAY TECHNIQUE
2
Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
Applicants:
ギガフォトン株式会社 GIGAPHOTON INC. [JP/JP]; 栃木県小山市大字横倉新田400番地 400, Oaza Yokokurashinden, Oyama-shi, Tochigi 3238558, JP
Inventors:
西村 祐一 NISHIMURA, Yuichi; JP
薮 隆之 YABU, Takayuki; JP
Agent:
松浦 憲三 MATSUURA, Kenzo; JP
Priority Data:
PCT/JP2016/05719608.03.2016JP
Title (EN) EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT GENERATING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE PRODUCTION DE LUMIÈRE DANS L'ULTRAVIOLET EXTRÊME
(JA) 極端紫外光生成装置
Abstract:
(EN) Provided is an extreme ultraviolet light generating apparatus 1 that moves the position at which extreme ultraviolet light is generated on the basis of a command from an exposure device 9 that is an external device, the extreme ultraviolet light generating apparatus comprising: a chamber 2 wherein a target 27 is supplied and irradiated with laser light 31 so as to generate extreme ultraviolet light from the target; a target supply unit 25 that outputs the target and supplies the same into the chamber; a focusing mirror 231 that focuses the laser light onto the target supplied into the chamber; a stage 26 that adjusts the position of the target supply unit; a manipulator 224 that adjusts the position of the focusing mirror; and a control unit that is configured to control, using the feed forward method, at least one of the stage, the manipulator, and the timing of irradiating the target with the laser light when moving the generation position during the generation of the extreme ultraviolet light.
(FR) L'invention concerne un appareil de production de lumière dans l'ultraviolet extrême (1) qui déplace la position au niveau de laquelle la lumière dans l'ultraviolet extrême est produite sur la base d'une instruction provenant d'un dispositif d'exposition (9) qui est un dispositif externe, l'appareil de production de lumière dans l'ultraviolet extrême comprenant : une chambre (2) dans laquelle une cible (27) est fournie et irradiée avec la lumière laser (31) afin de produire de la lumière dans l'ultraviolet extrême à partir de la cible; une unité de fourniture de cible (25) qui délivre la cible et la fournit dans la chambre; un miroir de focalisation (231) qui focalise la lumière laser sur la cible fournie dans la chambre; une platine (26) qui ajuste la position de l'unité de fourniture de cible; un manipulateur (224) qui ajuste la position du miroir de focalisation; et une unité de commande conçue pour commander, à l'aide du procédé de réaction anticipée, la platine et/ou le manipulateur et/ou la temporisation d'irradiation de la cible avec la lumière laser lors du déplacement de la position de production pendant la production de la lumière dans l'ultraviolet extrême.
(JA) 極端紫外光生成装置1は、外部装置である露光装置9からの指令に基づいて極端紫外光の生成位置を移動させる極端紫外光生成装置であって、内部に供給されたターゲット27に対してレーザ光31が照射されることでターゲットから極端紫外光が生成されるチャンバ2と、ターゲットを出力しチャンバ内に供給するターゲット供給器25と、チャンバ内に供給されたターゲットにレーザ光を集光する集光ミラー231と、ターゲット供給器の位置を調整するステージ26と、集光ミラーの位置を調整するマニピュレータ224と、極端紫外光の生成中に生成位置を移動させる際、ステージ、マニピュレータ、及び、ターゲットに対するレーザ光の照射タイミングのうちの少なくとも1つをフィードフォワード方式で制御可能に構成された制御部と、を備える。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)