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1. (WO2017154436) VACUUM SUCTION MEMBER AND VACUUM SUCTION METHOD
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Pub. No.: WO/2017/154436 International Application No.: PCT/JP2017/004140
Publication Date: 14.09.2017 International Filing Date: 06.02.2017
IPC:
H01L 21/683 (2006.01)
[IPC code unknown for H01L 21/683]
Applicants:
日本特殊陶業株式会社 NGK SPARK PLUG CO., LTD. [JP/JP]; 愛知県名古屋市瑞穂区高辻町14番18号 14-18,Takatsuji-cho, Mizuho-ku, Nagoya-shi, Aichi 4678525, JP
Inventors:
石野 智浩 ISHINO Tomohiro; JP
菊地 真哉 KIKUCHI Shinya; JP
Agent:
青木 昇 AOKI Noboru; JP
中島 浩貴 NAKAJIMA Hiroki; JP
Priority Data:
2016-04604709.03.2016JP
Title (EN) VACUUM SUCTION MEMBER AND VACUUM SUCTION METHOD
(FR) ÉLÉMENT D'ASPIRATION À VIDE ET PROCÉDÉ D'ASPIRATION À VIDE
(JA) 真空吸着部材および真空吸着方法
Abstract:
(EN) Provided are a vacuum suction member and a vacuum suction method, which are configured so that the misalignment of a substrate during the suction and holding of a wafer which deflects or warps largely can be suppressed. In a state in which a wafer W is placed on the upper surface side of a base 1, pressure within an inner space S1 surrounded by the upper surface of the base 1, the lower surface of the wafer W, and the inner surface of an inner annular rib 21 is reduced through a first air passage 101. After that, pressure within an outer space S2 surrounded by the upper surface of the base 1, the lower surface of the wafer W, the outer surface of the inner annular rib 21, and the inner surface of an outer annular rib 22 is reduced through a second air passage 102.
(FR) L'invention concerne un élément d'aspiration à vide et un procédé d'aspiration à vide, qui sont configurés pour que le mauvais alignement d'un substrat pendant l'aspiration et le maintien d'une tranche qui se déforme ou se tord puisse être supprimé en grande partie. Dans un état dans lequel une tranche (W) est placée sur le côté de la surface supérieure d'une base (1), la pression à l'intérieur d'un espace intérieur (S1) entouré par la surface supérieure de la base (1), la surface inférieure de la tranche (W), et la surface intérieure d'une nervure annulaire intérieure (21) est réduite par un premier passage d'air (101). Après cela, la pression à l'intérieur d'un espace extérieur (S2) entouré par la surface supérieure de la base (1), la surface inférieure de la tranche (W), la surface extérieure de la nervure annulaire intérieure (21), et la surface intérieure d'une nervure annulaire extérieure (22) est réduite par un deuxième passage d'air (102).
(JA) 撓みまたは反りの程度が大きいウエハの吸着保持時における基板の位置ずれを抑制しうる真空吸着部材および真空吸着方法を提供する。 ウエハWが基体1の上面側に載置された状態で、基体1の上面、ウエハWの下面および内側環状リブ21の内側面により囲まれている内側空間S1が、第1通気路101を通じて減圧される。続いて、基体1の上面、ウエハWの下面、内側環状リブ21の外側面および外側環状リブ22の内側面により囲まれている外側空間S2が、第2通気路102を通じて減圧される。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)