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1. (WO2017153165) METHOD FOR PRODUCING AN ILLUMINATION SYSTEM FOR AN EUV PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, AND ILLUMINATION SYSTEM
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Pub. No.: WO/2017/153165 International Application No.: PCT/EP2017/053993
Publication Date: 14.09.2017 International Filing Date: 22.02.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
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Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
CARL ZEISS SMT GMBH [DE/DE]; Rudolf-Eber-Str. 2 73447 Oberkochen, DE
Inventors:
BAIER, Jürgen; DE
RUNDE, Daniel; DE
MANGER, Matthias; DE
MÜLLER, Ulrich; DE
LICHTENTHÄLER, Jörg; DE
ORTHEN, André; DE
WELKER, Joachim; DE
HOLZ, Markus; DE
HOLDERER, Hubert; DE
Agent:
PATENTANWÄLTE RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER MBB; Kronenstraße 30 70174 Stuttgart, DE
Priority Data:
10 2016 203 990.310.03.2016DE
Title (EN) METHOD FOR PRODUCING AN ILLUMINATION SYSTEM FOR AN EUV PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, AND ILLUMINATION SYSTEM
(FR) PROCÉDÉ POUR PRODUIRE UN SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE POUR UNE INSTALLATION D'ÉCLAIRAGE PAR PROJECTION FONCTIONNANT DANS L'ULTRAVIOLET EXTRÊME ET SYSTÈME D'ÉCLAIRAGE
(DE) VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINES BELEUCHTUNGSSYSTEMS FÜR EINE EUV-PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND BELEUCHTUNGSSYSTEM
Abstract:
(EN) The invention relates to a method for producing an illumination system for an EUV system comprising the following steps: installing mirror modules of the illumination system at installation positions provided for the mirror modules in order to establish an illumination beam path, which leads from a source position to an illumination field, wherein the mirror modules comprise a first mirror module having a first facet mirror at a first installation position and a second mirror module having a second facet mirror at a second installation position of the illumination system; coupling measurement light into the illumination beam path at an in-coupling position before a first mirror module of the illumination beam path; detecting the measurement light after reflection of the measurement light at each of the mirror modules of the illumination beam path; determining actual measured values for at least one system measurement variable from detected measurement light, wherein the actual measured values represent an actual state of the system measurement variable of the illumination system; determining correction values from the actual measured values by using sensitivities, which represent a relationship between the system measurement variable and a change in the situation of at least one mirror module in the installation position thereof; adjusting at least one mirror module so as to change the situation of the mirror module in the installation position in rigid-body degrees of freedom by using the correction values in order to change the actual state in such a way that, when EUV radiation of the EUV radiation source is radiated in, the illumination radiation in the illumination field satisfies the illumination specification.
(FR) L'invention concerne un procédé pour produire un système d'éclairage pour une installation fonctionnant dans l'ultraviolet extrême, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : installer des modules réflecteurs du système d'éclairage en des positions d'installation prévues pour les modules réflecteurs de manière à établir une trajectoire de faisceau d'éclairage qui mène d'une position de source jusqu'à un champ d'éclairage, les modules réflecteurs comprenant un premier module réflecteur doté d'un premier miroir à facettes en une première position de montage et un second module réflecteur doté d'un second miroir à facettes en une seconde position de montage du système d'éclairage, injecter de la lumière de mesure dans la trajectoire du faisceau d'éclairage en une position d'injection avant un premier module réflecteur de la trajectoire du faisceau d'éclairage, détecter le lumière de mesure après réflexion sur chacun des modules réflecteurs de la trajectoire du faisceau d'éclairage, déterminer,à partir de la lumière de mesure détectée, des valeurs de mesure réelles pour au moins une grandeur du système, les valeurs de mesures réelles représentant un état réel de la grandeur de mesure du système d'éclairage, déterminer des valeurs de correction à partir des valeurs de mesure réelles par utilisation de sensibilités qui représentent une relation entre la grandeur de mesure du système et une modification de la position d'au moins un module réflecteur dans sa position de montage, ajuster au moins un module réflecteur au moyen de la modification de la position du module réflecteur dans la position de montage dans des degrés de liberté de corps rigide par utilisation des valeurs de correction pour modifier l'état réel de telle manière que lors de l'injection du rayonnement ultraviolet extrême de la source de rayonnement ultraviolet extrême, le rayonnement d'éclairage dans le champ d'éclairage est conforme à la spécification d'éclairage.
(DE) Ein Verfahren zum Herstellen eines Beleuchtungssystems für eine EUV-Anlage umfasst folgende Schritte: Einbauen von Spiegelmodulen des Beleuchtungssystems an für die Spiegelmodule vorgesehenen Einbaupositionen zum Aufbau eines Beleuchtungsstrahlengangs, der von einer Quellenposition bis zu einem Beleuchtungsfeld führt, wobei die Spiegelmodule ein erstes Spiegelmodul mit einem ersten Facettenspiegel an einer ersten Einbauposition und ein zweites Spiegelmodul mit einem zweiten Facetten-spiegel an einer zweiten Einbauposition des Beleuchtungssystems umfassen; Einkoppeln von Messlicht in den Beleuchtungsstrahlengang an einer Einkoppelposition vor einem ersten Spiegelmodul des Beleuchtungsstrahlengangs; Detektieren vom Messlicht nach Reflexion des Messlichts an jedem der Spiegelmodule des Beleuchtungsstrahlengangs; Ermitteln von Ist-Messwerten für mindestens eine Systemmessgröße aus detektiertem Messlicht, wobei die Ist-Messwerte einen Ist-Zustand der Systemmessgröße des Beleuchtungssystems repräsentieren; Ermitteln von Korrekturwerten aus den Ist-Messwerten unter Verwendung von Sensitivitäten, die einen Zusammenhang zwischen der Systemmessgröße und einer Veränderung der Lage mindestens eines Spiegelmoduls in seiner Einbauposition repräsentieren; Justieren mindestens eines Spiegelmoduls unter Veränderung der Lage des Spiegelmoduls in der Einbauposition in Starrkörperfreiheitsgraden unter Verwendung der Korrekturwerte zur Veränderung des Ist-Zustandes in der Weise, dass bei Einstrahlung von EUV-Strahlung der EUV-Strahlungsquelle die Beleuchtungsstrahlung im Beleuchtungsfeld der Beleuchtungsspezifikation genügt.
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Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)