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1. (WO2017152469) PREPARATION METHOD FOR COLOR FILM SUBSTRATE AND PREPARED COLOR FILM SUBSTRATE
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Pub. No.: WO/2017/152469 International Application No.: PCT/CN2016/079234
Publication Date: 14.09.2017 International Filing Date: 14.04.2016
IPC:
G02F 1/1335 (2006.01)
[IPC code unknown for G02F 1/1335]
Applicants:
武汉华星光电技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN/CN]; 中国湖北省武汉市 东湖开发区高新大道666号生物城C5栋 Building C5, Biolake of Optics Valley No.666 Gaoxin Avenue, Wuhan East Lake High-tech Development Zone Wuhan, Hubei 430070, CN
Inventors:
沈嘉文 SHEN, Jiawun; CN
Agent:
深圳市德力知识产权代理事务所 COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE; 中国广东省深圳市 福田区上步中路深勘大厦15E Room 15E Shenkan Building,Shangbu Zhong Road Shenzhen, Guangdong 518028, CN
Priority Data:
201610128001.307.03.2016CN
Title (EN) PREPARATION METHOD FOR COLOR FILM SUBSTRATE AND PREPARED COLOR FILM SUBSTRATE
(FR) PROCÉDÉ DE PRÉPARATION POUR SUBSTRAT DE FILM COLORÉ ET SUBSTRAT DE FILM COLORÉ PRÉPARÉ
(ZH) 彩膜基板的制作方法及制得的彩膜基板
Abstract:
(EN) A preparation method for a color film substrate and a prepared color film substrate, the method comprising: forming a first, a second and a third photoresist layers (21, 22, 23) successively on a substrate (10), and respectively performing patterning treatment to the first, second and third photoresist layers (21, 22, 23), so as to obtain a first, a second and a third photoresist matrixes (31, 32, 33) in a stacked arrangement, a plurality of first photoresist blocks (41), a plurality of second photoresist blocks (42), and a plurality of third photoresist blocks (43); mixing colors of said first, second and third photoresist matrixes (31, 32, 33) to be displayed as black, so as to form a black matrix (30); partitioned by the black matrix (30), said plurality of first photoresist blocks (41), said plurality of second photoresist blocks (42) and said plurality of third photoresist blocks (43) constitute a color photoresist layer (40). By means of forming the black matrix (30) when preparing the color photoresist layer (40), comparing to the prior art, the present method saves the time spent on completing a manufacturing process, eliminates the use of materials to form the black matrix (30), and reduces production costs; and the prepared color film substrate has a simple structure, low production cost, and good filtering results.
(FR) L'invention concerne un procédé de préparation pour un substrat de films colorés et un substrat de films colorés préparés, le procédé comprenant les étapes suivantes : former une première, une deuxième et une troisième couche de photorésine (21, 22, 23) successivement sur un substrat (10), et effectuer respectivement un traitement de structuration sur la première, la deuxième et la troisième couche de photorésine (21, 22, 23) de manière à obtenir une première, une deuxième et une troisième matrice (31, 32, 33) dans un agencement empilé, une pluralité de premiers blocs de photorésine (41), une pluralité de deuxièmes blocs de photorésine (42) et une pluralité de troisièmes blocs de photorésine (43) ; mélanger les couleurs desdites première, deuxième et troisième matrices de photorésine (31, 32, 33) devant être affichées sous forme de noir, de manière à former une matrice noire (30) ; séparées par la matrice noire (30), ladite pluralité de premiers blocs de photorésine (41), ladite pluralité de deuxièmes blocs de photorésine (42) et ladite pluralité de troisièmes blocs de photorésine (43) constituant une couche de photorésine colorée (40). Au moyen de la formation de la matrice noire (30) lors de la préparation de la couche de photorésine colorée (40), par comparaison avec l'état de la technique, le présent procédé économise le temps nécessaire à la réalisation d'un processus de fabrication, élimine l'utilisation de matériaux pour former la matrice noire (30), et réduit les coûts de production ; et le substrat de film coloré préparé a une structure simple, un faible coût de production et de bons résultats de filtrage.
(ZH) 一种彩膜基板的制作方法及制得的彩膜基板,通过在基板(10)上依次形成第一、第二、第三光阻层(21、22、23),并分别对第一、第二、第三光阻层(21、22、23)进行图形化处理,得到堆叠设置的第一、第二、第三光阻矩阵(31、32、33)、数个第一光阻块(41)、数个第二光阻块(42)、以及数个第三光阻块(43),所述第一、第二、第三光阻矩阵(31、32、33)的色彩混合后显示为黑色,从而形成黑色矩阵(30),被黑色矩阵(30)间隔开的数个第一光阻块(41)、数个第二光阻块(42)、及数个第三光阻块(43)构成彩色光阻层(40);通过在制作彩色光阻层(40)的同时形成黑色矩阵(30),与现有技术相比,节省一道制程时间,省去了黑色矩阵(30)材料的使用,并降低生产成本,制得的彩膜基板,结构简单,制作成本低,且具有良好的滤光效果。
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Publication Language: Chinese (ZH)
Filing Language: Chinese (ZH)