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1. (WO2017149882) Sn-Zn-O-BASED OXIDE SINTERED BODY AND METHOD FOR PRODUCING SAME
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Pub. No.: WO/2017/149882 International Application No.: PCT/JP2016/086172
Publication Date: 08.09.2017 International Filing Date: 06.12.2016
IPC:
C04B 35/457 (2006.01) ,C23C 14/34 (2006.01)
[IPC code unknown for C04B 35/457][IPC code unknown for C23C 14/34]
Applicants:
住友金属鉱山株式会社 SUMITOMO METAL MINING CO., LTD [JP/JP]; 東京都港区新橋5丁目11番3号 11-3, Shimbashi 5-chome, Minato-ku, Tokyo 1058716, JP
Inventors:
安東 勲雄 ANDO, Isao; JP
小沢 誠 OZAWA, Makoto; JP
五十嵐 茂 IGARASHI, Shigeru; JP
Agent:
上田 章三 UEDA, Shozo; JP
小泉 雅裕 KOIZUMI Masahiro; JP
Priority Data:
2016-04233204.03.2016JP
2016-08269118.04.2016JP
Title (EN) Sn-Zn-O-BASED OXIDE SINTERED BODY AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) CORPS FRITTÉ D'OXYDE À BASE DE Sn-Zn-O ET SON PROCÉDÉ DE PRODUCTION
(JA) Sn-Zn-O系酸化物焼結体とその製造方法
Abstract:
(EN) [Problem] To provide: a Sn-Zn-O-based oxide sintered body with a high Sn concentration that is used as a sputtering target, and has mechanical strength and properties of high density and low resistance; and a method for producing the Sn-Zn-O based oxide sintered body. [Solution] This Sn-Zn-O-based oxide sintered body with a high Sn concentration is characterized by including 0.75 to 0.9 of Sn in the Sn/(Zn+Sn) atomic ratio, by including 0.001 to 0.1 of at least one type of additional element (X) selected from Nb, Ta, W, and Mo in the X/(Sn+Zn+X) atomic ratio, which is relative to the total amount of Sn, Zn, and the additional element (X), and in having a relative density of 95% or more and a specific resistance of 1 Ω∙cm or less. The Sn-Zn-O-based oxide sintered body with a high Sn concentration is also characterized by being produced by being fired under conditions where a heating rate from 700°C to a sintering temperature is 0.4°C/min to 0.8°C/min in an atmosphere of oxygen concentration in a furnace of 70 volume% or higher, the sintering temperature is 1300°C to 1460°C, and the firing time is 10 to 30 hours.
(FR) [Problème] Fournir un corps fritté d'oxyde à base de Sn-Zn-O à forte concentration en Sn qui est utilisé comme cible de pulvérisation cathodique, et qui présente une résistance mécanique et des propriétés de densité élevée et de faible résistance; et un procédé de production de de corps fritté d'oxyde à base de Sn-Zn-O. [Solution] Ce corps fritté d'oxyde à base de Sn-Zn-O à forte concentration en Sn est caractérisé en ce qu'il comprend 0,75 à 0,9 de Sn selon le rapport atomique Sn/(Zn+Sn), 0,001 à 0,1 d'au moins un type d'élément supplémentaire (X) choisi parmi Nb, Ta, W et Mo selon le rapport atomique X/ (Sn+Zn+X), par rapport à la quantité totale de Sn, Zn et de l'élément supplémentaire (X), et en ce qu'il a une densité relative de 95 % ou plus et une résistance spécifique de 1 Ω∙cm ou moins. Le corps fritté d'oxyde à base de Sn-Zn-O à forte concentration en Sn est également caractérisé en ce qu'il est produit par cuisson dans les conditions suivantes : vitesse de chauffage de 700 °C à une température de frittage de 0,4 °C/min à 0,8 °C/min dans une atmosphère de concentration d'oxygène dans un four de 70 % en volume ou plus, température de frittage de 1300 °C à 1460 °C et temps de cuisson de 10 à 30 heures.
(JA) 【課題】機械的強度と高密度かつ低抵抗の特性を有しスパッタリングターゲットとして利用される高Sn濃度のSn-Zn-O系酸化物焼結体とその製造方法を提供する。 【解決手段】原子数比Sn/(Zn+Sn)が0.75以上0.9以下となる割合でSnを含有し、Nb、Ta、W、Moから選ばれた少なくとも1種の添加元素(X)を、SnとZnと添加元素(X)の総量に対する原子数比X/(Sn+Zn+X)が0.001以上0.1以下となる割合で含有すると共に、相対密度が95%以上かつ比抵抗が1Ω・cm以下であることを特徴とし、この高Sn濃度のSn-Zn-O系酸化物焼結体は、焼成炉内の酸素濃度が70体積%以上の雰囲気において700℃から焼結温度までの昇温速度が0.4℃/min以上0.8℃/min以下、焼結温度が1300℃以上1460℃以下、かつ10時間以上30時間以内の条件で焼成して製造することを特徴とする。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, KE, KG, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)