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1. (WO2017149003) METHOD AND APPARATUS TO DETERMINE A PATTERNING PROCESS PARAMETER
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Pub. No.: WO/2017/149003 International Application No.: PCT/EP2017/054748
Publication Date: 08.09.2017 International Filing Date: 01.03.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
VAN LEEST, Adriaan, Johan; NL
TSIATMAS, Anagnostis; NL
HINNEN, Paul, Christiaan; NL
MC NAMARA, Elliott, Gerard; NL
VERMA, Alok; NL
THEEUWES, Thomas; NL
CRAMER, Hugo, Augustinus, Joseph; NL
Agent:
BROEKEN, Petrus; NL
Priority Data:
62/301,88001.03.2016US
62/435,63016.12.2016US
62/435,64916.12.2016US
62/435,66216.12.2016US
62/435,67016.12.2016US
62/458,93214.02.2017US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS TO DETERMINE A PATTERNING PROCESS PARAMETER
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL PERMETTANT DE DÉTERMINER UN PARAMÈTRE DE TRAITEMENT DE MODÉLISATION
Abstract:
(EN) A method of determining overlay of a patterning process, the method including: obtaining a detected representation of radiation redirected by one or more physical instances of a unit cell, wherein the unit cell has geometric symmetry at a nominal value of overlay and wherein the detected representation of the radiation was obtained by illuminating a substrate with a radiation beam such that a beam spot on the substrate was filled with the one or more physical instances of the unit cell; and determining, from optical characteristic values from the detected radiation representation, a value of a first overlay for the unit cell separately from a second overlay for the unit cell that is also obtainable from the same optical characteristic values, wherein the first overlay is in a different direction than the second overlay or between a different combination of parts of the unit cell than the second overlay.
(FR) La présente invention concerne un procédé de détermination d'une superposition d'un processus de modélisation, ledit procédé comprenant : l'obtention d'une représentation détectée d'un rayonnement redirigé par une ou plusieurs instances physiques d'une cellule unitaire, ladite cellule unitaire bénéficiant d'une symétrie géométrique à une valeur nominale de superposition et la représentation détectée du rayonnement étant obtenue par éclairage d'un substrat avec un faisceau de rayonnement tel qu'un point de faisceau sur le substrat soit rempli par la ou les instances physiques de la cellule unitaire ; et déterminer, à partir des valeurs de caractéristique optique de la représentation détectée de rayonnement, une valeur d'une première superposition pour la cellule unitaire distincte d'une seconde superposition pour la cellule unitaire qui peut également être obtenue à partir des mêmes valeurs de caractéristique optique, la première superposition étant orientée dans une direction différente de celle de la seconde superposition ou entre une combinaison différente de parties de la cellule unitaire par rapport à la seconde superposition.
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)