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1. (WO2017148986) METHOD AND APPARATUS TO DETERMINE A PATTERNING PROCESS PARAMETER
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Pub. No.: WO/2017/148986 International Application No.: PCT/EP2017/054719
Publication Date: 08.09.2017 International Filing Date: 01.03.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
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Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
VAN LEEST, Adriaan, Johan; NL
TSIATMAS, Anagnostis; NL
HINNEN, Paul, Christiaan; NL
MC NAMARA, Elliott, Gerard; NL
VERMA, Alok; NL
THEEUWES, Thomas; NL
CRAMER, Hugo, Augustinus, Joseph; NL
Agent:
BROEKEN, Petrus; NL
Priority Data:
62/301,88001.03.2016US
62/435,63016.12.2016US
62/435,64916.12.2016US
62/435,66216.12.2016US
62/435,67016.12.2016US
62/458,93214.02.2017US
Title (EN) METHOD AND APPARATUS TO DETERMINE A PATTERNING PROCESS PARAMETER
(FR) PROCÉDÉ ET APPAREIL POUR DÉTERMINER UN PARAMÈTRE DE TRAITEMENT DE MODÉLISATION
Abstract:
(EN) A method of determining a parameter of a patterning process, the method including: obtaining a detected representation of radiation redirected by a structure having geometric symmetry at a nominal physical configuration, wherein the detected representation of the radiation was obtained by illuminating a substrate with a radiation beam such that a beam spot on the substrate was filled with the structure; and determining, by a hardware computer system, a value of the patterning process parameter based on optical characteristic values from an asymmetric optical characteristic distribution portion of the detected radiation representation with higher weight than another portion of the detected radiation representation, the asymmetric optical characteristic distribution arising from a different physical configuration of the structure than the nominal physical configuration.
(FR) L'invention concerne un procédé de détermination d'un paramètre d'un traitement de modélisation, le procédé consistant : à obtenir une représentation détectée de rayonnement redirigé par une structure ayant une symétrie géométrique au niveau d'une configuration physique nominale, la représentation de rayonnement détectée étant obtenue par éclairage d'un substrat avec un faisceau de rayonnement de telle sorte qu'un point de faisceau sur le substrat est rempli avec la structure ; et à déterminer, par un système informatique matériel, une valeur du paramètre de traitement de modélisation sur la base de valeurs de caractéristique optique d'une partie de distribution de caractéristique optique asymétrique de la représentation de rayonnement détectée ayant une pondération plus élevée qu'une autre partie de la représentation de rayonnement détectée, la distribution de caractéristique optique asymétrique résultant d'une configuration physique de la structure différente de la configuration physique nominale.
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)