Some content of this application is unavailable at the moment.
If this situation persist, please contact us atFeedback&Contact
1. (WO2017148759) METHOD FOR CHARACTERIZING DISTORTIONS IN A LITHOGRAPHIC PROCESS, LITHOGRAPHIC APPARATUS, LITHOGRAPHIC CELL AND COMPUTER PROGRAM
Latest bibliographic data on file with the International Bureau    Submit observation

Pub. No.: WO/2017/148759 International Application No.: PCT/EP2017/054017
Publication Date: 08.09.2017 International Filing Date: 22.02.2017
IPC:
G03F 7/20 (2006.01)
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20
Exposure; Apparatus therefor
Applicants:
ASML NETHERLANDS B.V. [NL/NL]; P.O. Box 324 5500 AH Veldhoven, NL
Inventors:
MOS, Everhardus, Cornelis; NL
WILDENBERG, Jochem, Sebastiaan; NL
WERKMAN, Roy; NL
WALLERBOS, Erik, Johannes, Maria; NL
Agent:
PETERS, John; NL
Priority Data:
16158667.204.03.2016EP
Title (EN) METHOD FOR CHARACTERIZING DISTORTIONS IN A LITHOGRAPHIC PROCESS, LITHOGRAPHIC APPARATUS, LITHOGRAPHIC CELL AND COMPUTER PROGRAM
(FR) PROCÉDÉ POUR CARACTÉRISER DES DISTORSIONS DANS UN PROCÉDÉ LITHOGRAPHIQUE, APPAREIL LITHOGRAPHIQUE, CELLULE LITHOGRAPHIQUE, ET PROGRAMME INFORMATIQUE
Abstract:
(EN) Disclosed is a method of characterizing distortions in a lithographic process, and associated apparatuses. The method comprises obtaining measurement data corresponding to a plurality of measurement locations on a substrate, said measurement data comprising measurements performed on a plurality of substrates, and comprising one or more measurements performed on one or more of the substrates for each of said measurement locations. For each of the measurement locations, a first quality value representing a quality metric and a noise value representing a noise metric is determined from the measurements performed at that measurement location. The method further comprises determining a plurality of distortion parameters, each distortion parameter being configured to characterize a systematic distortion in said quality metric; determining a statistical significance of said distortion parameters from said first quality value and from said noise value; and parameterizing the systematic distortion from the distortion parameters determined to be statistically significant.
(FR) L'invention concerne un procédé pour caractériser des distorsions dans un procédé lithographique, et des appareils associés. Le procédé consiste à obtenir des données de mesure correspondant à une pluralité d'emplacements de mesure sur un substrat, lesdites données de mesure comprenant des mesures réalisées sur une pluralité de substrats, et comprenant une ou plusieurs mesures réalisées sur un ou plusieurs substrats pour chacun desdits emplacements de mesure. Pour chacun des emplacements de mesure, une première valeur de qualité représentant une mesure de qualité et une valeur de bruit représentant une métrique de bruit sont déterminées à partir des mesures réalisées à cet emplacement de mesure. Le procédé consiste en outre à déterminer une pluralité de paramètres de distorsion, chaque paramètre de distorsion étant configuré pour caractériser une distorsion systématique dans ladite métrique de qualité ; déterminer une importance statistique desdits paramètres de distorsion à partir de ladite première valeur de qualité et de ladite valeur de bruit ; et paramétrer la distorsion systématique à partir des paramètres de distorsion déterminés comme étant statistiquement importants.
front page image
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Office (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: English (EN)
Filing Language: English (EN)