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1. WO2017145260 - HEAT REACTIVE RESIST MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING MOLD USING SAME, AND MOLD

Publication Number WO/2017/145260
Publication Date 31.08.2017
International Application No. PCT/JP2016/055219
International Filing Date 23.02.2016
IPC
B29C 59/02 2006.01
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
59Surface shaping, e.g. embossing; Apparatus therefor
02by mechanical means, e.g. pressing
CPC
B29C 59/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
59Surface shaping ; of articles; , e.g. embossing; Apparatus therefor
02by mechanical means, e.g. pressing
Applicants
  • 旭化成株式会社 ASAHI KASEI KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
Inventors
  • 三田村 哲理 MITAMURA, Yoshimichi
Agents
  • 青木 宏義 AOKI, Hiroyoshi
Priority Data
Publication Language Japanese (JA)
Filing Language Japanese (JA)
Designated States
Title
(EN) HEAT REACTIVE RESIST MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING MOLD USING SAME, AND MOLD
(FR) MATÉRIAU THERMORÉACTIF DE PHOTORÉSINE, PROCÉDÉ DE PRODUCTION D'UN MOULE L'UTILISANT ET MOULE
(JA) 熱反応型レジスト材料、及びそれを用いたモールドの製造方法、並びにモールド
Abstract
(EN)
To provide: a heat reactive resist material which is capable of maintaining excellent pattern roughness even in cases where a fine pattern is formed; a method for producing a mold using this heat reactive resist material; and a mold. A resist material according to the present invention is formed from an amorphous oxide and is characterized by forming a pattern with use of phase change mode wherein the phase changes from amorphous to crystalline. For example, it is preferable that the resist material contains copper (I) oxide as the amorphous oxide and the density of the copper (I) oxide is more than 4.00 g/cm3 but less than 6.07 g/cm3.
(FR)
L'invention concerne : un matériau thermoréactif de photorésine qui permet de maintenir une excellente rugosité de motif, même lorsqu'un motif fin est formé ; un procédé de production d'un moule utilisant ce matériau thermoréactif de photorésine ; et un moule. Un matériau de photorésine selon la présente invention est formé à partir d'un oxyde amorphe et est caractérisé par la formation d'un motif à l'aide d'un mode de changement de phase, la phase passant d'amorphe à cristalline. Par exemple, il est préférable que le matériau de photorésine contienne de l'oxyde de cuivre (I) en tant qu'oxyde amorphe et que la densité de l'oxyde de cuivre (I) soit supérieure à 4,00 g/cm3 mais inférieure à 6,07 g/cm3.
(JA)
微細パターンを形成した時でも優れたパターンラフネスを維持可能な熱反応型レジスト材料、及びそれを用いたモールドの製造方法並びにモールドを提供すること。アモルファス酸化物からなるレジスト材料であり、アモルファスから結晶に変化する相変化モードを用いてパターンを形成することを特徴とする。例えば、アモルファス酸化物として酸化銅(I)を含有し、前記酸化銅(I)の密度が、4.00g/cmより大きく、6.07g/cmより小さいことが好ましい。
Also published as
Latest bibliographic data on file with the International Bureau