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1. (WO2017138154) VACUUM PUMP, AND FLEXIBLE COVER AND ROTOR USED IN SAID VACUUM PUMP
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Pub. No.: WO/2017/138154 International Application No.: PCT/JP2016/054170
Publication Date: 17.08.2017 International Filing Date: 12.02.2016
IPC:
F04D 19/04 (2006.01) ,F04D 29/70 (2006.01)
F MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
04
POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
D
NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
19
Axial-flow pumps specially adapted for elastic fluids
02
Multi-stage pumps
04
specially adapted to the production of a high vacuum, e.g. molecular pumps
F MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
04
POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
D
NON-POSITIVE-DISPLACEMENT PUMPS
29
Details, component parts, or accessories
70
Suction grids; Strainers; Dust separation; Cleaning
Applicants:
エドワーズ株式会社 EDWARDS JAPAN LIMITED [JP/JP]; 千葉県八千代市吉橋1078番地1 1078-1,Yoshihashi,Yachiyo-shi, Chiba 2768523, JP
Inventors:
川西 伸治 KAWANISHI Shinji; JP
坂口 祐幸 SAKAGUCHI Yoshiyuki; JP
三枝 健吾 SAEGUSA Kengo; JP
Agent:
林 孝吉 HAYASHI Takayoshi; JP
Priority Data:
Title (EN) VACUUM PUMP, AND FLEXIBLE COVER AND ROTOR USED IN SAID VACUUM PUMP
(FR) POMPE À VIDE ET COUVERCLE SOUPLE ET ROTOR UTILISÉS DANS LADITE POMPE À VIDE
(JA) 真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられる可撓性カバー及びロータ
Abstract:
(EN) [Problem] To provide a vacuum pump which suppresses the penetration of foreign matter such as rust or particles attributable to a process gas into a semiconductor wafer manufacturing process, and a flexible cover and a rotor for use in the vacuum pump. [Solution] A vacuum pump 1 is provided with: a casing 10 having a gas intake port 12a and a gas exhaust port 11a; and a rotor 20 which has a recessed portion 29 opening toward the gas intake port 12a and which is fastened to a rotor shaft 21 by means of bolts 25 disposed in the recessed portion 29. In the recessed portion 29 is provided a flexible cover 80 which deforms elastically in a convex shape toward the recessed portion 29 and covers the recessed portion 29. An outer circumferential portion 80a of the flexible cover 80 is supported on an end surface 20a of the rotor 20 that faces the gas intake port 12a, and a central portion 80b thereof is sunk into the recessed portion 29 of the rotor 20.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de fournir une pompe à vide qui supprime la pénétration de matières étrangères telles que la rouille ou des particules attribuables à un gaz de traitement dans un processus de fabrication de plaquettes à semi-conducteurs, et un couvercle souple et un rotor destinés à être utilisés dans la pompe à vide. La solution selon l'invention porte sur une pompe à vide 1 équipée : d'un corps 10 comportant un orifice d'admission 12a de gaz et un orifice d'échappement 11a de gaz ; et d'un rotor 20 qui présente une partie évidée 29 s'ouvrant en direction de l'orifice d'admission 12a de gaz et qui est fixé sur un arbre 21 de rotor au moyen de boulons 25 disposés dans la partie évidée 29. Un couvercle souple 80 est agencé dans la partie évidée 29, lequel se déforme élastiquement dans une forme convexe vers la partie évidée 29 et recouvre la partie évidée 29. Une partie circonférentielle externe 80a du couvercle souple 80 est supportée sur une surface d'extrémité 20a du rotor 20 qui fait face à l'orifice d'admission 12a de gaz, et sa partie centrale 80b est enfoncée dans la partie évidée 29 du rotor 20.
(JA) 【課題】プロセスガスに起因する錆やパーティクル等の異物が半導体ウェハの製造工程に侵入することを抑制する真空ポンプ及び該真空ポンプに用いられる可撓性カバー及びロータを提供する。 【解決手段】真空ポンプ1は、ガス吸気口12a及びガス排気口11aを有するケーシング10と、ガス吸気口12aに向けて開口する凹部29を有し、凹部29内に配置されたボルト25を介してロータシャフト21に締結されたロータ20と、を備えている。凹部29には、ロータ20のガス吸気口12aに対向する端面20aに外周部80aが支持されると共に、ロータ20の凹部29内に中央部80bが陥入し、凹部29に向けて凸状に弾性変形して凹部29を覆う可撓性カバー80が設けられている。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
CN108474383KR1020180108577EP3415766US20190032669