Provided is a metal film forming composition comprising: a metal complex represented by general formula (1), general formula (2), or general formula (3); a counter anion of the metal complex; and a solvent of the metal complex. In general formulae (1)-(3), M¹ and M³ each independently represent, a metal atom selected from a group consisting of Ag, Cu, Li, Ni, Mn, Zn, and Co, and M³ represents a metal atom selected from a group consisting of Cu, Ni, Mn, and Co. L¹¹-L³² each independently represent, an NH₃ ligand, an R¹NH₂ ligand, an OH₂ ligand, or a diamine-derived ligand, and R¹ represents an alkylene group. 1n, 1m, 3n, and 3m each independently represent, an integer of 0-8; 2n and 2m each independently represent, an integer of 0-4; 1n+1m is in the range of 4-8; 2n+2m is in the range of 2-4; 3n+3m is in the range of 2-8; and respectively represent integers determined in accordance with the valence of the metal atoms represented by M¹-M³.

L'invention concerne une composition de formation de film métallique comprenant : un complexe métallique représenté par la formule générale (1), la formule générale (2) ou la formule générale (3); un contre-anion du complexe métallique; et un solvant du complexe métallique. Dans les formules générales (1) à (3), M¹ et M³ représentent indépendamment un atome de métal choisi dans un groupe constitué d'Ag, Cu, Li, Ni, Mn, Zn et Co, et M³ représente un atome de métal choisi dans un groupe constitué de Cu, Ni, Mn et Co. L¹¹ à L³² représentent indépendamment un ligand NH₃, un ligand R¹NH₂ , un ligand OH₂ ou un ligand dérivé de diamine, et R¹ représente un groupe alkylène. 1n, 1m, 3n et 3m représentent chacun indépendamment un entier de 0 à 8; 2n et 2m représentent chacun indépendamment un entier de 0 à 4; la somme 1n +1 m est dans la plage de 4 à 8; la somme 2n +2m est dans la plage de 2 à 4; la somme 3n + 3m est dans la plage de 2 à 8; et ils représentent respectivement des entiers déterminés conformément à la valence des atomes de métal représentés par M¹ à M³.

下記一般式（１）、一般式（２）または一般式（３）で表される金属錯体と、前記金属錯体の対アニオンと、前記金属錯体の溶剤とを含む金属膜形成用組成物。一般式（１）～一般式（３）中、Ｍ^１およびＭ^３は、それぞれ独立に、Ａｇ、Ｃｕ、Ｌｉ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｚｎ、およびＣｏからなる群より選ばれる金属原子を、Ｍ^３は、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｍｎ、およびＣｏからなる群より選ばれる金属原子をそれぞれ表す。Ｌ^１１～Ｌ^３２は、それぞれ独立にＮＨ_３配位子、Ｒ^１ＮＨ_２配位子、ＯＨ_２配位子、またはジアミン由来の配位子を表し、Ｒ^１はアルキレン基を表す。1ｎ、1ｍ、3ｎおよび3ｍは、それぞれ独立に０～８の整数を表し、2ｎおよび2ｍは、それぞれ独立に０～４の整数を表し、1ｎ＋1ｍは４～８の範囲であり、2ｎ＋2ｍは２～４の範囲であり、3ｎ＋3ｍは２～８の範囲であり、それぞれ、Ｍ^１～Ｍ^３で表される金属原子の価数に応じて決定される整数を表す。