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1. (WO2017133983) PLASMA GENERATION DEVICE COMPRISING A HIGH-VOLTAGE SOURCE
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Pub. No.: WO/2017/133983 International Application No.: PCT/EP2017/051785
Publication Date: 10.08.2017 International Filing Date: 27.01.2017
IPC:
H05H 1/24 (2006.01) ,H05H 1/48 (2006.01)
H ELECTRICITY
05
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
H
PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY- CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
1
Generating plasma; Handling plasma
24
Generating plasma
H ELECTRICITY
05
ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
H
PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY- CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
1
Generating plasma; Handling plasma
24
Generating plasma
48
using an arc
Applicants:
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT [DE/DE]; Werner-von-Siemens-Straße 1 80333 München, DE
Inventors:
HAMMER, Thomas; DE
HERGT, Martin; DE
Priority Data:
10 2016 201 459.501.02.2016DE
Title (DE) PLASMAERZEUGUNGSVORRICHTUNG UMFASSEND EINE HOCHSPANNUNGSQUELLE
(EN) PLASMA GENERATION DEVICE COMPRISING A HIGH-VOLTAGE SOURCE
(FR) DISPOSITIF DE PRODUCTION DE PLASMA COMPRENANT UNE SOURCE DE HAUTE TENSION
Abstract:
(DE) Die Erfindung betrifft eine Plasmaerzeugungsvorrichtung (2) umfassend eine Hochspannungsquelle (4), einen Stützkondensator (6), zwei Elektroden (10, 12), wobei hiervon eine Elektrode eine Hochspannungselektrode (10) ist und die andere eine Masseelektrode (12) ist, dadurch gekennzeichnet, dass eine Impulsspannungsquelle (14) vorgesehen ist, die mit einer Steuerelektrode (16) in Verbindung steht, und wobei die Steuerelektrode (16) in der Art an einer elektrisch aktiven Fläche (18) einer der Elektroden (10, 12) angeordnet ist, dass sie durch ein Dielektrikum (20) von dieser getrennt ist.
(EN) The invention relates to a plasma generation device (2) comprising a high-voltage source (4), a backup capacitor (6), two electrodes (10, 12), one of which is a high-voltage electrode (10) and the other one of which is a ground electrode (12), characterized in that a pulse-voltage source (14) is provided that is connected to a control electrode (16), and in that the control electrode (16) is disposed on an electrically active surface (18) of one of the electrodes (10, 12) in such a way as to be separated therefrom by a dielectric (20).
(FR) L’invention concerne un dispositif de production de plasma (2), comprenant une source de haute tension (4), un condensateur de découplage (6), deux électrodes (10, 12), l’une étant une électrode haute tension (10) et l’autre une électrode de masse (12), caractérisé en ce qu’une source de tension pulsée (14) est reliée à une électrode de commande (16), et en ce que l’électrode de commande (16) est disposée sur une surface électriquement active (18) d’une des électrodes (10, 12) de manière à être séparée de cette dernière par un diélectrique (20).
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Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
African Regional Intellectual Property Organization (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Publication Language: German (DE)
Filing Language: German (DE)