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1. (WO2017130896) THERMAL ACID GENERATOR AND RESIST COMPOSITION USING SAME
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Pub. No.: WO/2017/130896 International Application No.: PCT/JP2017/002106
Publication Date: 03.08.2017 International Filing Date: 23.01.2017
IPC:
C09K 3/00 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
09
DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
K
MATERIALS FOR APPLICATIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
3
Materials not provided for elsewhere
G PHYSICS
03
PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
F
PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
7
Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printed surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004
Photosensitive materials
04
Chromates
Applicants:
株式会社ADEKA ADEKA CORPORATION [JP/JP]; 東京都荒川区東尾久七丁目2番35号 2-35, Higashiogu 7-chome, Arakawa-ku, Tokyo 1160012, JP
Inventors:
三宅 惇哉 MIYAKE Junya; JP
竹内 良智 TAKEUCHI Yoshitomo; JP
佐藤 直美 SATO Naomi; JP
木村 健太郎 KIMURA Kentaro; JP
Agent:
本多 一郎 HONDA Ichiro; JP
Priority Data:
2016-01281426.01.2016JP
Title (EN) THERMAL ACID GENERATOR AND RESIST COMPOSITION USING SAME
(FR) GÉNÉRATEUR D’ACIDE THERMIQUE ET COMPOSITION DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE UTILISANT CELUI-CI
(JA) 熱酸発生剤およびこれを用いたレジスト組成物
Abstract:
(EN) Provided are a thermal acid generator having a high acid generation temperature, and a resist composition using same. The thermal acid generator is a sulfonic acid derivative compound represented by general formula (I) (in formula (I), R1 represents an aliphatic hydrocarbon group having 1-18 carbon atoms, or the like, or a group represented by general formula (II) (in general formula (II), Y1 represents a single bond or an alkanediyl group having 1-4 carbon atoms, R11 and R12 each independently represent an alkanediyl group having 2-6 carbon atoms, or the like, R13 represents a straight chain or branched chain alkyl group having 1-18 carbon atoms, or the like, a and b each represent 0 or 1, and either of a or b is 1), R2 to R7 each independently represent a straight chain or branched-chain alkyl group having 1-14 carbon atoms, or the like, the aliphatic hydrocarbon group or the like in R1 does not have a substituent group or is substituted with a halogen atom or the like, and a methylene structure in the aliphatic hydrocarbon group or the like in R1 may be substituted with -O- or the like).
(FR) La présente invention concerne un générateur d’acide thermique ayant une température de génération d’acide élevée, et une composition de résine photosensible utilisant celui-ci. Le générateur d’acide thermique est un composé dérivé d’acide sulfonique représenté par la formule générale (I) (dans la formule (I), R1 représente un groupe hydrocarboné aliphatique ayant 1 à 18 atomes de carbone, ou similaire, ou un groupe représenté par la formule générale (II) (dans la formule générale (II), Y1 représente une simple liaison ou un groupe alcanediyle ayant 1 à 4 atomes de carbone, R11 et R12 représentent chacun indépendamment un groupe alcanediyle ayant 2 à 6 atomes de carbone, ou similaire, R13 représente un groupe alkyle à chaîne linéaire ou à chaîne ramifiée ayant 1 à 18 atomes de carbone, ou similaire, a et b représentent chacun 0 ou 1, et l’un de a ou b est 1), R2 à R7 représentent chacun indépendamment un groupe alkyle à chaîne linéaire ou à chaîne ramifiée ayant 1 à 14 atomes de carbone, ou similaire, le groupe hydrocarboné aliphatique ou similaire dans R1 ne comporte pas de groupe substituant ou est substitué par un atome d’halogène ou similaire, et une structure de méthylène dans groupe hydrocarboné aliphatique ou similaire dans R1 peut être substitué par -O- ou similaire).
(JA) 酸発生温度の高い熱酸発生剤およびこれを用いたレジスト組成物を提供する。 下記一般式(I)、(式(I)中、Rは、炭素原子数1~18の脂肪族炭化水素基等または下記一般式(II)、(一般式(II)中、Yは、単結合または炭素原子数1~4のアルカンジイル基を表し、R11およびR12はそれぞれ独立に、炭素原子数2~6のアルカンジイル基等を表し、R13は、炭素原子数1~18の直鎖または分岐鎖アルキル基等を表し、a、bは、0または1を表し、a、bのどちらか一方は1である。)で表される基を表し、R~Rは、それぞれ独立に、炭素原子数1~14の直鎖または分岐鎖アルキル基等を表し、R中の脂肪族炭化水素基等は、置換基を有しないか、ハロゲン原子等で置換され、R中の脂肪族炭化水素基等中のメチレン構造は、-O-等で置き換えられていてもよい。)で表されるスルホン酸誘導体化合物である。
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
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