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1. (WO2017130745) HIGH PURITY TUNGSTEN PENTACHLORIDE AND METHOD FOR SYNTHESIZING SAME
Latest bibliographic data on file with the International Bureau

Pub. No.: WO/2017/130745 International Application No.: PCT/JP2017/001086
Publication Date: 03.08.2017 International Filing Date: 13.01.2017
Chapter 2 Demand Filed: 20.06.2017
IPC:
C01G 41/04 (2006.01)
C CHEMISTRY; METALLURGY
01
INORGANIC CHEMISTRY
G
COMPOUNDS CONTAINING METALS NOT COVERED BY SUBCLASSES C01D OR C01F94
41
Compounds of tungsten
04
Halides
Applicants:
JX金属株式会社 JX NIPPON MINING & METALS CORPORATION [JP/JP]; 東京都千代田区大手町一丁目1番2号 1-2,Otemachi 1-chome,Chiyoda-ku, Tokyo 1008164, JP
Inventors:
高橋 秀行 TAKAHASHI,Hideyuki; JP
桃井 元 MOMOI,Hajime; JP
Agent:
アクシス国際特許業務法人 AXIS PATENT INTERNATIONAL; 東京都港区新橋二丁目6番2号 新橋アイマークビル Shimbashi i-mark Bldg., 6-2 Shimbashi 2-Chome, Minato-ku, Tokyo 1050004, JP
Priority Data:
2016-01466228.01.2016JP
Title (EN) HIGH PURITY TUNGSTEN PENTACHLORIDE AND METHOD FOR SYNTHESIZING SAME
(FR) PENTACHLORURE DE TUNGSTÈNE À PURETÉ ÉLEVÉE ET SON PROCÉDÉ DE SYNTHÈSE
(JA) 高純度5塩化タングステンおよびその合成方法
Abstract:
(EN) The purpose of the present invention is to safely synthesize high purity tungsten pentachloride at a higher yield and at a higher purity than in prior art. This method for producing tungsten pentachloride includes: a step of mixing a reducing agent selected from the group consisting of Bi, Hg, Sb, Ti, Al, P, and As with tungsten hexachloride uniformly in an inert atmosphere with a molar ratio of the tungsten hexachloride to the reducing agent being 2.8:1.0 to 3.2:1.0 to obtain a mixture; a step of heating the mixture of the reducing agent and the tungsten hexachloride to 80 to 210°C at 13 Pa or lower and reducing the same; a step of heating the reduced product of the mixture of the reducing agent and the tungsten hexachloride to 120 to 290°C at 66 Pa or lower and vacuum distilling the same to remove impurities; and a step of heating the reduced product from which impurities have been removed by the vacuum distillation to 140 to 350°C at 13 Pa or lower and purifying the same by sublimation to obtain the tungsten pentachloride.
(FR) L'objectif de la présente invention est de synthétiser de façon sûre du pentachlorure de tungstène à pureté élevée à un rendement élevé et à une pureté plus élevée que dans l'état de la technique. Le présent procédé de production de pentachlorure de tungstène comprend : une étape de mélange d'un agent réducteur choisi dans le groupe constitué de Bi, Hg, Sb, Ti, Al, P et As avec de l'hexachlorure de tungstène uniformément dans une atmosphère inerte, un rapport molaire de l'hexachlorure de tungstène à l'agent réducteur allant de 2,8:1,0 à 3,2:1,0 de façon à obtenir un mélange ; une étape de chauffage du mélange de l'agent réducteur et de l'hexachlorure de tungstène à une température de 80 à 210 °C à 13 Pa ou moins et de réduction de celui-ci ; une étape de chauffage du produit réduit du mélange de l'agent réducteur et de l'hexachlorure de tungstène à une température de 120 à 290 °C à 66 Pa ou moins et de distillation sous vide de celui-ci afin d'éliminer les impuretés ; et une étape de chauffage du produit réduit duquel les impuretés ont été éliminées par la distillation sous vide à une température de 140 à 350 °C à 13 Pa ou moins et de purification de celui-ci par sublimation de façon à obtenir le pentachlorure de tungstène.
(JA) Bi、Hg、Sb、Ti、Al、P、Asからなる群から選択された還元剤と、6塩化タングステンとを、6塩化タングステン:還元剤のモル比が2.8:1.0~3.2:1.0で、不活性雰囲気中で均一に混合して、混合物を得る工程、還元剤と6塩化タングステンとの混合物を、13Pa以下で80~210℃に加熱して還元する工程、還元剤と6塩化タングステンとの混合物の還元物を、66Pa以下で120~290℃に加熱し、減圧蒸留して不純物を除去する工程、減圧蒸留によって不純物除去された還元物を、13Pa以下で140~350℃に加熱し、昇華精製して、5塩化タングステンを得る工程、を含む、5塩化タングステンの製造方法によって、従来よりも高収率で安全な高純度で、高純度5塩化タングステンを合成する。
Designated States: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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Publication Language: Japanese (JA)
Filing Language: Japanese (JA)
Also published as:
KR1020180067637EP3409647US20190031526